[發(fā)明專利]基于大信號等效電路模型的GaN器件工藝參數(shù)統(tǒng)計分析方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680014212.2 | 申請日: | 2016-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN107636656B | 公開(公告)日: | 2020-11-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | 徐躍杭;聞彰;徐銳敏;延波 | 申請(專利權(quán))人: | 電子科技大學 |
| 主分類號: | G06F30/30 | 分類號: | G06F30/30 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務所 11569 | 代理人: | 王戈 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 信號 等效電路 模型 gan 器件 工藝 參數(shù) 統(tǒng)計分析 方法 | ||
1.一種基于大信號等效電路模型的GaN器件工藝參數(shù)統(tǒng)計分析方法,其特征在于:所述統(tǒng)計分析方法包括:
步驟一:建立GaN器件小信號等效電路模型,提取小信號模型參數(shù);
步驟二:建立GaN器件工藝參數(shù)關(guān)聯(lián)的大信號等效電路模型,提取大信號模型參數(shù),所述大信號模型參數(shù)包括非線性電流源模型參數(shù)和非線性電容模型參數(shù);
步驟三:以器件的實測微波特性為目標,調(diào)諧優(yōu)化大信號模型參數(shù);
所述調(diào)諧優(yōu)化大信號模型參數(shù)的方法包括:
導入所述小信號模型參數(shù)及大信號模型參數(shù);
設置第四調(diào)諧參數(shù),計算器件的微波特性;其中,所述第四調(diào)諧參數(shù)包括勢壘層厚度、摻雜濃度、柵長、柵寬和Al組份中的至少一者,所述大信號等效電路模型的微波特性包括輸出功率、功率附加效率和增益中至少一者;
將計算的器件的微波特性與實測的微波特性進行對比,得到微波特性擬合曲線;
根據(jù)微波特性擬合曲線的擬合度重復修改所述第四調(diào)諧參數(shù),直到所述微波特性擬合曲線的擬合度符合第四設定閾值;
步驟四:基于建立的大信號模型提取多批次GaN器件的工藝參數(shù),并對所述工藝參數(shù)進行統(tǒng)計分析。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于大信號等效電路模型的GaN器件工藝參數(shù)統(tǒng)計分析方法,其特征在于:所述小信號模型參數(shù)包括寄生參數(shù)和本征參數(shù);其中,所述寄生參數(shù)包括寄生電容、寄生電阻、寄生電感,所述本征參數(shù)包括本征電容、本征電阻、電流源及輸出電導。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于大信號等效電路模型的GaN器件工藝參數(shù)統(tǒng)計分析方法,其特征在于:所述提取小信號模型參數(shù)的方法包括:
測試在所述GaN器件小信號等效電路模型中的GaN器件在夾斷狀態(tài)下的散射參數(shù);
根據(jù)所述夾斷狀態(tài)下的散射參數(shù)提取所述小信號等效電路模型中的寄生參數(shù);
對全部的寄生參數(shù)去嵌后,計算各偏置點對應的小信號模型參數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于大信號等效電路模型的GaN器件工藝參數(shù)統(tǒng)計分析方法,其特征在于:步驟一中,在提取小信號模型參數(shù)后,還包括:
根據(jù)所述小信號模型參數(shù)通過仿真得到仿真散射參數(shù);
將所述仿真散射參數(shù)與檢測的散射參數(shù)進行對比得到散射參數(shù)擬合曲線;
設置第一調(diào)諧參數(shù),根據(jù)所述散射參數(shù)擬合曲線的擬合度重復修改第一調(diào)諧參數(shù),直到所述散射參數(shù)擬合曲線的擬合度符合第一設定閾值。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于大信號等效電路模型的GaN器件工藝參數(shù)統(tǒng)計分析方法,其特征在于:所述提取大信號模型參數(shù)的方法包括:
對在所述GaN器件工藝參數(shù)關(guān)聯(lián)的大信號等效電路模型中GaN器件進行測試,得到脈沖I-V測試數(shù)據(jù)和靜態(tài)I-V測試數(shù)據(jù);
根據(jù)脈沖I-V測試數(shù)據(jù)提取Ids非線性模型中與自熱效應無關(guān)的參數(shù);
聯(lián)合脈沖I-V測試數(shù)據(jù)和靜態(tài)I-V測試數(shù)據(jù)提取Ids非線性模型中與陷阱效應和自熱效應的相關(guān)參數(shù);
根據(jù)Ids非線性模型中與自熱效應無關(guān)的參數(shù)、Ids非線性模型中與陷阱效應和自熱效應相關(guān)的參數(shù)進行仿真得到脈沖I-V仿真數(shù)據(jù)和靜態(tài)I-V仿真數(shù)據(jù);
將脈沖I-V仿真數(shù)據(jù)和靜態(tài)I-V仿真數(shù)據(jù)分別與對應的脈沖I-V測試數(shù)據(jù)和靜態(tài)I-V測試數(shù)據(jù)進行對比,得到I-V擬合曲線;
根據(jù)所述I-V擬合曲線的擬合度重復修改第二調(diào)諧參數(shù),直到所述I-V擬合曲線的擬合度符合第二設定閾值;以及
提取本征參數(shù)中的本征電容,以所述本征電容在多偏置下的取值為目標進行擬合,計算得到非線性電容模型參數(shù);
將計算得到的非線性電容模型參數(shù)與提取的非線性電容模型參數(shù)進行對比,獲得對比度;
設置第三調(diào)諧參數(shù),根據(jù)所述對比度重復修改第三調(diào)諧參數(shù),以調(diào)諧非線性電容模型參數(shù),直到所述對比度符合第三設定閾值。
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