[發明專利]顯示設備及用于制造這樣的設備的方法在審
| 申請號: | 201680014137.X | 申請日: | 2016-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN107409458A | 公開(公告)日: | 2017-11-28 |
| 發明(設計)人: | 卡里·哈爾科寧 | 申請(專利權)人: | BENEQ有限公司 |
| 主分類號: | H05B33/22 | 分類號: | H05B33/22;H05B33/10;H05B33/28;G09G3/30 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371 | 代理人: | 李丙林,吳莎 |
| 地址: | 芬蘭*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 設備 用于 制造 這樣 方法 | ||
1.一種透明薄膜電致發光顯示器(70),包括基板(78a)、有源層(78b)以及觀看側表面(5),所述有源層能夠發射在可見光波長范圍內的光的發射光譜,其特征在于,所述透明薄膜電致發光顯示器還包括窄帶反射器(79a),所述窄帶反射器(79a)和所述觀察側表面(5)位于所述有源層(78b)的相反側,所述窄帶反射器(79a)反射穿過背側表面(5b)進入所述顯示器(70)的環境光(74)的一部分。
2.根據權利要求1所述的透明薄膜電致發光顯示器,其特征在于,對于由所述有源層(78b)發射的所述發射光譜,所述窄帶反射器(79a)的電致發光透射率為50%至65%。
3.根據權利要求1所述的透明薄膜電致發光顯示器,其特征在于,對于由所述有源層(78b)發射的所述發射光譜,所述窄帶反射器(79a)的電致發光透射率為25%至50%。
4.根據權利要求1所述的透明薄膜電致發光顯示器,其特征在于,對于由所述有源層(78b)發射的所述發射光譜,所述窄帶反射器(79a)的電致發光透射率為0.1%至25%。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的透明薄膜電致發光顯示器,其特征在于,所述透明薄膜電致發光顯示器的明視透射率超過30%,更優選地超過40%,且最優選地超過50%。
6.根據權利要求1至4中任一項所述的透明薄膜電致發光顯示器,其特征在于,所述透明薄膜電致發光顯示器的明視透射率超過65%。
7.根據權利要求1至6中任一項所述的透明薄膜電致發光顯示器,其特征在于,所述窄帶反射器包括至少一層高折射率材料和至少一層低折射率材料。
8.根據權利要求7所述的透明薄膜電致發光顯示器,其特征在于,所述高折射率材料包括鈦(Ti),并且所述低折射率材料包括鋁(Al)或鋅(Zn)。
9.根據權利要求7所述的透明薄膜電致發光顯示器,其特征在于,所述高折射率材料包括鋅(Zn),并且所述低折射率材料包括鋁(Al)。
10.一種用于制造透明薄膜電致發光顯示器的方法,所述透明薄膜電致發光顯示器具有觀看側表面(5)、有源層(78b)和窄帶反射器(79a),其特征在于,所述方法包括將所述窄帶反射器(79a)和所述觀看側表面(5)布置在所述有源層(78b)的相反側的步驟。
11.根據權利要求10所述的方法,其特征在于,所述方法還包括將窄帶反射器(109a)直接布置在TASEL子單元(108)的有源層(108b)上的步驟,所述TASEL子單元包括在具有觀看側表面(5)的基板(108a)上的有源層(108b)。
12.根據權利要求10所述的方法,其特征在于,所述方法還包括用粘合層(85)的粘合劑將所述窄帶反射器(89a)粘結到所述有源層(88b)的步驟。
13.根據權利要求10所述的方法,其特征在于,所述方法還包括將窄帶反射器子單元(99)直接光學地粘結到封裝的TASEL子單元(98)的步驟。
14.根據權利要求10所述的方法,其特征在于,所述方法還包括將窄帶反射器粘結到TASEL顯示器的封裝的TASEL子單元(98)的透明片(98d)的步驟,所述TASEL子單元(98)包括具有觀看側表面(5)的基板(98a)、有源層(98b)、薄膜結構粘合層(98c)和用于封裝的透明片(98d)。
15.根據權利要求10所述的方法,其特征在于,所述方法還包括下述步驟:將有源層(118b)布置在包括位于基板(119b)上的窄帶反射器(119a)的窄帶反射器子單元(119)上,以用于形成包括有源層(118b)和窄帶反射器(119a)兩者的組合TASEL子單元(116)。
16.根據權利要求10至15中任一項所述的方法,其特征在于,所述方法還包括下述步驟:使在制造中的所述窄帶反射器的層中的至少一個層、或者在制造中的所述有源層的層中的至少一個層、或者在制造中的發光層的層中的至少一個層經受至少第一和第二氣態前驅體的交替的表面反應。
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