[發(fā)明專(zhuān)利]排氣凈化用催化劑有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201680010687.4 | 申請(qǐng)日： | 2016-02-16 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107249737B | 公開(kāi)（公告）日： | 2020-10-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 尾上亮太;坂神新吾;野村泰隆;森下雄太;栗山純實(shí);關(guān)根洋;落合大輔;三好直人;竹內(nèi)雅彥;佐藤明美 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 株式會(huì)社科特拉;豐田自動(dòng)車(chē)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | B01J35/04 | 分類(lèi)號(hào)： | B01J35/04;B01D53/94;B01J23/63;F01N3/10;F01N3/24;F01N3/28 |
| 代理公司： | 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322 | 代理人： | 龍淳;狄茜 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 排氣 凈化 催化劑 | ||
1.一種壁流型的排氣凈化用催化劑，其配置于內(nèi)燃機(jī)的排氣管，對(duì)從該內(nèi)燃機(jī)排出的排氣進(jìn)行凈化，所述排氣凈化用催化劑的特征在于，包括：
壁流結(jié)構(gòu)的基材，其中，排氣流入側(cè)的端部開(kāi)口的入側(cè)小室與排氣流出側(cè)的端部開(kāi)口的出側(cè)小室由多孔質(zhì)的分隔壁分隔；
第一催化劑層，其從所述排氣流入側(cè)的端部沿所述分隔壁的延伸方向以小于所述分隔壁的延伸方向的全長(zhǎng)Lw的長(zhǎng)度L1設(shè)置于所述分隔壁的內(nèi)部且與所述入側(cè)小室相接的區(qū)域；和
第二催化劑層，其從所述排氣流出側(cè)的端部沿所述分隔壁的延伸方向以小于所述分隔壁的延伸方向的全長(zhǎng)Lw的長(zhǎng)度L2設(shè)置于所述分隔壁的內(nèi)部且與所述出側(cè)小室相接的區(qū)域，
在所述分隔壁的內(nèi)部且與所述入側(cè)小室相接的區(qū)域中，在接近于所述排氣流出側(cè)的端部的位置，具有不設(shè)置所述第一催化劑層和所述第二催化劑層的基材露出部，
所述第一催化劑層和所述第二催化劑層中，分別將涂敷量整體設(shè)為100％時(shí)，至少80％的涂敷量存在于所述分隔壁的內(nèi)部，所述涂敷量的單位為g，
所述第一催化劑層和所述第二催化劑層分別含有氧吸留材料，
所述第一催化劑層的涂敷密度D1相對(duì)于所述第二催化劑層的涂敷密度D2的比D1/D2為1.1以上1.8以下。
2.如權(quán)利要求1所述的排氣凈化用催化劑，其特征在于：
所述D1/D2為1.4以上1.7以下。
3.如權(quán)利要求1或2所述的排氣凈化用催化劑，其特征在于：
催化劑整體的催化劑平均涂敷密度DA為40g/L以上150g/L以下。
4.如權(quán)利要求1或2所述的排氣凈化用催化劑，其特征在于：
所述第一催化劑層中的所述基材每1L體積的所述氧吸留材料的含量O1與所述第二催化劑層中的所述基材每1L體積的所述氧吸留材料的含量O2滿足O1＞O2。
5.如權(quán)利要求4所述的排氣凈化用催化劑，其特征在于：
所述O1與所述O2的比O1/O2為1.4以上1.7以下。
6.如權(quán)利要求4所述的排氣凈化用催化劑，其特征在于：
所述氧吸留材料的含量O1為30g/L以上50g/L以下，
所述氧吸留材料的含量O2為20g/L以上35g/L以下。
7.如權(quán)利要求1或2所述的排氣凈化用催化劑，其特征在于：
所述第一催化劑層和所述第二催化劑層分別含有所述氧吸留材料作為沒(méi)有載持催化劑金屬的助催化劑。
8.如權(quán)利要求1或2所述的排氣凈化用催化劑，其特征在于：
所述第一催化劑層含有銠。
9.如權(quán)利要求1或2所述的排氣凈化用催化劑，其特征在于：
所述第二催化劑層含有鈀。
10.如權(quán)利要求1或2所述的排氣凈化用催化劑，其特征在于：
所述第一催化劑層與所述第二催化劑層在所述延伸方向上一部分重合地構(gòu)成為：所述Lw、所述L1和所述L2滿足下式：Lw＜(L1+L2)＜2Lw。
11.如權(quán)利要求1或2所述的排氣凈化用催化劑，其特征在于：
將所述分隔壁的與所述延伸方向正交的厚度方向的整體厚度設(shè)為T(mén)w、
將所述第一催化劑層的厚度設(shè)為T(mén)1、
將所述第二催化劑層的厚度設(shè)為T(mén)2時(shí)，
所述第一催化劑層與所述第二催化劑層在所述厚度方向上一部分重合地構(gòu)成為：所述Tw、所述T1、所述T2滿足下式：Tw＜(T1+T2)＜2Tw。
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