[發(fā)明專利]用于在基板上形成金屬圖案的方法和所用的耗材組

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680009962.0
• 申請(qǐng)日: 2016-02-12
• 公開（公告）號(hào): CN107250442B
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 塞繆爾·斯特雷姆斯多厄弗爾;阿諾德·詹姆斯;愛(ài)德華·穆里耶德斯蓋耶茨
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 噴射金屬技術(shù)公司
• 主分類號(hào): C25D5/02
• 分類號(hào): C25D5/02;C23C18/16;C23C18/30;C23C18/20
• 代理公司: 北京柏杉松知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11413
• 代理人: 劉繼富;王春偉

1.一種用于在基板上形成金屬圖案的方法，其特征在于，

·所述方法包括以下步驟：

A.任選地準(zhǔn)備旨在獲得金屬圖案的基板表面；

B.通過(guò)絲網(wǎng)印刷掩模/網(wǎng)板和/或通過(guò)直接印刷的方式在基板表面上沉積對(duì)應(yīng)于待形成圖案的負(fù)圖案的臨時(shí)保護(hù)，其中絲網(wǎng)印刷掩模/網(wǎng)板的切掉部分對(duì)應(yīng)于待形成圖案的負(fù)圖案；

C.活化基板表面；

D.通過(guò)在對(duì)應(yīng)于待形成圖案的區(qū)域上沉積至少一種金屬而金屬化；

E.清除步驟B的臨時(shí)保護(hù)；

F.任選地清洗帶有金屬圖案的基板表面；

G.任選地干燥帶有金屬圖案的基板表面；

H.任選地在帶有金屬圖案的基板表面上進(jìn)行后處理；

·在步驟D期間進(jìn)行清除臨時(shí)保護(hù)的步驟E，

·步驟E由通過(guò)包含在金屬化溶液的至少一種中的至少一種溶劑溶解臨時(shí)保護(hù)構(gòu)成，

·清除E的持續(xù)時(shí)間小于或等于金屬化D的持續(xù)時(shí)間，

·金屬沉積D是通過(guò)噴涂氣溶膠形式的一種或更多種氧化還原溶液的非電鍍金屬化，

·所述基板為非導(dǎo)電材料或半導(dǎo)體材料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，

·所述方法在金屬化D之前包括以下步驟中的至少一個(gè)：

I.在知道所述方法包含活化步驟C的情況下，增加基板表面能的處理，增加基板表面能的步驟I任選地在活化C之前提供；

J.潤(rùn)濕基板表面；

K.清洗基板表面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于步驟D的金屬選自以下金屬：銀、鎳、錫、鐵、金、鈷、銅、及其氧化物、其合金和其組合。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于所述方法包括步驟A，所述步驟A包括至少一個(gè)清漆層的沉積和/或旨在獲得金屬圖案的基板表面的脫脂。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于用于根據(jù)步驟I增加基板表面能的處理選自物理處理和/或化學(xué)處理。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于所述后處理H是形成一個(gè)或更多個(gè)清漆涂層和/或由一種或更多種金屬構(gòu)成的電鍍?cè)龊瘛?/p>

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于所述金屬化步驟D的持續(xù)時(shí)間等于溶解臨時(shí)保護(hù)的持續(xù)時(shí)間。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于所獲得的金屬圖案是裝飾性和/或功能性的。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于所述方法在工業(yè)廠房中連續(xù)地/在線地實(shí)施。

10.用于實(shí)施根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的方法的耗材組，其特征在于所述耗材組包括：

a.用于進(jìn)行步驟B的臨時(shí)保護(hù)的耗材，所述臨時(shí)保護(hù)溶于堿性溶劑中；

b.用于步驟D的金屬化的耗材，其包含一種或更多種氧化還原溶液，所述氧化還原溶液含有一種或更多種氧化劑金屬陽(yáng)離子和一種或更多種還原化合物，所述溶液的至少一種含有堿性溶劑；

c.任選地，用于準(zhǔn)備步驟A的旨在獲得金屬圖案的基板表面的耗材；和/或；

d.任選地，用于步驟B的變體之一的至少一種絲網(wǎng)印刷掩模/網(wǎng)板；和/或；

e.用于步驟C的活化基板表面的耗材；和/或；

f.任選地，用于根據(jù)步驟E清除步驟B的臨時(shí)保護(hù)的耗材；和/或；

g.任選地，用于根據(jù)步驟F清洗的耗材；和/或；

h.任選地，用于根據(jù)步驟H沉積至少一個(gè)表面涂層的耗材。