[發(fā)明專利]輻照靶處理系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680009270.6 | 申請日： | 2016-01-18 |
| 公開（公告）號： | CN107251156B | 公開（公告）日： | 2019-09-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 托馬斯·法比安·里希特;亞歷山大·西科拉;維爾弗里德·坎尼維舍;蕾拉·加法爾 | 申請（專利權(quán)）人： | 法瑪通有限公司 |
| 主分類號： | G21C23/00 | 分類號： | G21C23/00;G21G1/02 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290 | 代理人： | 王新春;曹正建 |
| 地址： | 德國埃*** | 國省代碼： | 德國;DE |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 輻照 處理 系統(tǒng) | ||
1.一種用于將輻照靶(16)插入核反應(yīng)堆的堆芯(10)內(nèi)的儀表管(14)中并從所述核反應(yīng)堆的堆芯內(nèi)的儀表管收回所述輻照靶的輻照靶處理系統(tǒng)(22)，所述系統(tǒng)包括：
靶收回系統(tǒng)(38)，所述靶收回系統(tǒng)包括被構(gòu)造成聯(lián)接至靶儲存容器(42)和排氣系統(tǒng)(44)的靶出口(40)；
靶插入系統(tǒng)(46)，所述靶插入系統(tǒng)包括靶填充裝置(84)、靶保留管(86)和聯(lián)接至所述靶填充裝置(84)、所述靶保留管(86)和所述靶收回系統(tǒng)(38)的靶分流器(88)，并且還包括位于所述靶保留管(86)上的靶供應(yīng)接頭(96)，其中，所述靶供應(yīng)接頭被構(gòu)造成連接至所述儀表管(14)；和
輸送氣體供應(yīng)系統(tǒng)(48)，所述輸送氣體供應(yīng)系統(tǒng)包括第一供氣管(102)、第二供氣管(104)和聯(lián)接至所述第一供氣管(102)和所述第二供氣管(104)的輸送氣體供應(yīng)接頭(106)，其中，所述第一供氣管(102)聯(lián)接至所述靶收回系統(tǒng)(38)的出口(40)且所述第二供氣管(104)被構(gòu)造成聯(lián)接至用于將氣體供應(yīng)到所述儀表管(14)的接頭(108)；以及
其中，所述靶收回系統(tǒng)(38)、所述靶插入系統(tǒng)(46)和所述輸送氣體供應(yīng)系統(tǒng)(48)安裝在可移動支撐件(52)上。
2.如權(quán)利要求1所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述靶收回系統(tǒng)(38)包括排出管(54)，所述排出管具有用于阻擋所述輻照靶(16)移動到所述出口(40)中的鎖定元件(56)。
3.如權(quán)利要求2所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述排出管(54)形成為倒U形的形狀。
4.如權(quán)利要求2所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述排出管(54)包括用來確定靶的活性的傳感器(78)。
5.如權(quán)利要求2所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述靶收回系統(tǒng)(38)包括可移動地配置在所述排出管(54)上以用于將磁性靶與非磁性靶分開的磁體(80)。
6.如權(quán)利要求2所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述排出管(54)連接至用于釋放被阻擋的輻照靶(16)的振動器(82)。
7.如權(quán)利要求1所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述出口(40)包括聯(lián)接至第一供氣管(102)和所述排氣系統(tǒng)(44)的球閥(60)。
8.如權(quán)利要求1所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述靶插入系統(tǒng)(46)包括適于容納從所述儀表管(14)收回的所有輻照靶的靶保留管(86)。
9.如權(quán)利要求8所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述靶保留管(86)包括上升管部分(90)和位于所述上升管部分(90)的上端用于阻擋所述輻照靶(16)移動到所述儀表管(14)中的鎖定元件(92)。
10.如權(quán)利要求8所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述靶保留管(86)包括用來確定靶的活性、靶的輸送時間、靶的數(shù)量和靶的磁性質(zhì)中的至少一種的傳感器(94)。
11.如權(quán)利要求1所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述輸送氣體供應(yīng)系統(tǒng)(48)包括連接至所述輸送氣體供應(yīng)接頭(106)的壓縮氣瓶。
12.如權(quán)利要求1所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述第一供氣管(102)包括第一截止閥(112)，且所述第二供氣管(104)包括第二截止閥(114)。
13.如權(quán)利要求7所述的靶處理系統(tǒng)，其中，排氣管(62)連接至所述球閥(60)和所述排氣系統(tǒng)(44)，并且包括位于所述球閥(60)下游的截止閥(66)。
14.如權(quán)利要求1所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述第一供氣管(102)和所述第二供氣管(104)均包括定向控制閥。
15.如權(quán)利要求14所述的靶處理系統(tǒng)，其中，所述定向控制閥是3/2定向控制閥。
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