[發明專利]鉻-鈦合金濺射靶材及其制造方法

有效

• 申請號: 201680009216.1
• 申請日: 2016-02-02
• 公開（公告）號: CN107208259B
• 公開（公告）日: 2019-08-13
• 發明（設計）人: 坂巻功一;福岡淳;斉藤和也
• 申請（專利權）人: 日立金屬株式會社
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;B22F3/15;C22C14/00;C22C27/06;G11B5/738;G11B5/851
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 馬爽;臧建明

1.一種鉻-鈦合金濺射靶材，其特征在于：原子比的組成式是以Cr_100-X-Ti_X、40≦X≦60表示，剩余部分包含不可避免的雜質，所述不可避免的雜質中含有合計為1質量ppm以上且17質量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn，其中

所述不可避免的雜質中含有Mg≦1質量ppm、Al≦10質量ppm、Si≦10質量ppm、Mn≦1質量ppm、Ni≦10質量ppm、Cu≦1質量ppm、Sn≦5質量ppm。

2.一種鉻-鈦合金濺射靶材的制造方法，其特征在于：將含有合計為1質量ppm以上且50質量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn作為雜質的Ti粉末，與含有合計為1質量ppm以上且50質量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn作為雜質的Cr粉末混合，并進行加壓燒結，由此獲得鉻-鈦合金濺射靶材，所述鉻-鈦合金濺射靶材的原子比的組成式是以Cr_100-X-Ti_X、40≦X≦60表示，剩余部分包含不可避免的雜質，所述不可避免的雜質中含有合計為1質量ppm以上且17質量ppm以下的Mg、Al、Si、Mn、Ni、Cu及Sn，其中

所述Ti粉末含有Mg≦1質量ppm、Al≦2質量ppm、Si≦10質量ppm、Mn≦2質量ppm、Ni≦10質量ppm、Cu≦10質量ppm、Sn≦2質量ppm，

所述Cr粉末含有Mg≦1質量ppm、Al≦10質量ppm、Si≦10質量ppm、Mn≦1質量ppm、Ni≦10質量ppm、Cu≦1質量ppm、Sn≦10質量ppm，以及

所述不可避免的雜質中含有Mg≦1質量ppm、Al≦10質量ppm、Si≦10質量ppm、Mn≦1質量ppm、Ni≦10質量ppm、Cu≦1質量ppm、Sn≦5質量ppm。