[發明專利]抗靜電抗反射的涂層

在審

• 申請號: 201680009132.8
• 申請日: 2016-03-09
• 公開（公告）號: CN107407746A
• 公開（公告）日: 2017-11-28
• 發明（設計）人: M·馬歇爾;J·布朗
• 申請（專利權）人: 視覺緩解公司
• 主分類號: G02B1/16
• 分類號: G02B1/16;B32B17/00;G02B1/00
• 代理公司: 深圳市百瑞專利商標事務所(普通合伙)44240
• 代理人: 金輝

1.一種抗反射抗靜電光學涂層包括：

第一材料的透明氧化物形式和第二材料的透明氧化物形式的多個交替層；和

由第一材料或第二材料形成的導電層。

2.根據權利要求1所述的光學涂層，其中所述第一材料的氧化物形式具有高折射率。

3.根據權利要求1所述的光學涂層，其中所述第二材料的氧化物形式具有低折射率。

4.根據權利要求1所述的光學涂層，其中所述第一材料的氧化物形式是二氧化鋯。

5.根據權利要求1所述的光學涂層，其中所述第二材料的氧化物形式是二氧化硅。

6.根據權利要求1所述的光學涂層，其中所述第一材料是過渡金屬。

7.根據權利要求1所述的光學涂層，其中所述第一材料是鋯。

8.根據權利要求1所述的光學涂層，還包括由所述第一材料或所述第二材料形成的粘膠層。

9.根據權利要求1所述的光學涂層，其中所述導電層具有約1至10納米范圍內的厚度。

10.根據權利要求1所述的光學涂層，其中所述光學涂層包括至少五層。

11.根據權利要求1所述的光學涂層，其中所述光學涂層具有約95％或更高的透射比。

12.一種抗反射抗靜電光學透鏡包括：

光學基板；

施加在光學基板的表面的多層第一材料的氧化物形式；

施加在光學基板的表面的多層第二材料的氧化物形式，所述多層第二材料的氧化物形式的中至少一層介于所述多層第一材料的氧化物形式中的兩層之間；和

施加到光學基板的表面的第一材料的導電層。

13.根據權利要求12所述的光學透鏡，其中光學基板是鑄塑樹脂。

14.根據權利要求12所述的光學透鏡，其中所述第一材料是過渡金屬或準金屬。

15.一種形成抗反射抗靜電光學涂層的方法包括：

形成第一材料的氧化物形式和第二材料的氧化物形式的多層交替層；和

在所述多層交替層的其中一層的表面上形成第一材料的導電層。

16.根據權利要求15所述的形成抗反射抗靜電光學涂層的方法，還包括將由第一材料或第二材料形成的粘膠層直接施加到光學基板表面的步驟。

17.根據權利要求15所述的形成抗反射抗靜電光學涂層的方法，還包括形成至少共五層的步驟。

18.根據權利要求17所述的形成抗反射抗靜電光學涂層的方法，其中粘膠層是導電的。

19.根據權利要求15所述的形成抗反射抗靜電光學涂層的方法，其中形成第一材料的氧化物形式和第二材料的氧化物形式的多層交替層的步驟包括形成高、中或低折射率層。

20.根據權利要求15所述的形成抗反射抗靜電光學涂層的方法，其中在所述多層交替層的其中一層的表面上形成第一材料的導電層步驟包括形成鋯層。

21.根據權利要求15所述的形成抗反射抗靜電光學涂層的方法，其中在所述多層交替層中一層的表面上形成第一材料的導電層的步驟包括形成厚度在約1至10納米范圍內的層。