[發(fā)明專利]光致發(fā)光驗證裝置、系統(tǒng)和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680009103.1
• 申請日: 2016-07-29
• 公開（公告）號: CN108174613B
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 納比爾·勞安迪
• 申請（專利權(quán)）人: 光譜系統(tǒng)公司
• 主分類號: G07D7/1205
• 分類號: G07D7/1205
• 代理公司: 上海天翔知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31224
• 代理人: 劉粉寶

1.一種用于驗證的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：

標(biāo)簽，其具有表面并且包括光致發(fā)光材料，所述光致發(fā)光材料能夠吸收來自輻射源的入射輻射且在輻射源移除之后發(fā)射具有光譜標(biāo)志的發(fā)射輻射，所述光致發(fā)光材料具有衰減時間；以及

光驗證裝置，所述光驗證裝置包括：

輻射源，其經(jīng)配置以向直接鄰近的光致發(fā)光材料提供入射輻射；以及

相機，其經(jīng)配置以在所述衰減時間期間測量來自直接鄰近的光致發(fā)光材料的所述發(fā)射輻射，

其中所述光譜標(biāo)志包括在所述衰減時間內(nèi)的在第一波長處的光譜強度和在第二波長處的光譜強度，以及

其中所述光驗證裝置經(jīng)配置以在光驗證裝置跨越所述標(biāo)簽的表面的移動期間提供來自所述輻射源的入射輻射并且通過所述相機測量發(fā)射輻射。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述光譜標(biāo)志界定測得代碼。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中將所述測得代碼與預(yù)定代碼進行比較以確定驗證。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述光譜標(biāo)志包含光譜和空間圖案。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中所述光譜標(biāo)志包含在衰減時間的在第三波長處的光譜強度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述光驗證裝置是智能電話或平板計算機。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述發(fā)射輻射中的所述第一和第二波長中的至少一者是在可見光的光譜內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述發(fā)射輻射中的所述第一和第二波長中的至少一者是在不可見光的光譜內(nèi)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述標(biāo)簽經(jīng)配置以并入到貨幣中。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述衰減時間是至少一秒。

11.一種用于驗證物品的方法，其包括：

用輻射源照射具有表面并且包含光致發(fā)光材料的標(biāo)簽，所述光致發(fā)光材料具有衰減時間且經(jīng)配置以吸收入射輻射且在輻射源移除之后發(fā)射具有光譜標(biāo)志的發(fā)射輻射；

用相機在輻射源移除之后的所述衰減時間期間測量來自所述光致發(fā)光材料的所述發(fā)射輻射；

用計算裝置基于所述光譜標(biāo)志產(chǎn)生代碼；以及

用所述計算裝置將所述代碼與預(yù)定參考代碼進行比較，

其中光驗證裝置包括輻射源、相機和計算裝置，

其中所述光譜標(biāo)志包括在衰減時間內(nèi)的在第一波長處的光譜強度和在第二波長處的光譜強度，

其中所述輻射源經(jīng)配置以向直接鄰近的光致發(fā)光材料提供入射輻射，

其中所述相機經(jīng)配置以測量來自直接鄰近的光致發(fā)光材料的所述發(fā)射輻射，

其中所述標(biāo)簽在襯底上使用，

其中所述光驗證裝置經(jīng)配置以在光驗證裝置跨越所述襯底的表面的移動期間提供來自所述輻射源的入射輻射并且通過所述相機測量發(fā)射輻射。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述光譜標(biāo)志界定測得代碼。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述光驗證裝置是智能電話或平板計算機。