[發明專利]低摩擦覆膜的制造方法和滑動方法

有效

• 申請號: 201680008163.1
• 申請日: 2016-01-29
• 公開（公告）號: CN107208264B
• 公開（公告）日: 2020-01-24
• 發明（設計）人: 加藤孝久;野坂正隆;遠山護;鈴木雅裕
• 申請（專利權）人: 株式會社捷太格特;國立大學法人東京大學
• 主分類號: C23C16/26
• 分類號: C23C16/26;C10M103/02;F16C19/00;F16C33/12;F16C33/24;F16C33/64
• 代理公司: 11219 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 王海川;穆德駿

1.一種低摩擦覆膜的制造方法，其包括：

將空間中的氣氛置換為含有含羥基化合物和氫氣與氮氣中的至少一者的氣氛的置換步驟，其中在所述空間中配置有由金屬或陶瓷形成的滑動面和包含非晶態碳基膜的被滑動面；和

在已將含有含羥基化合物和氫氣與氮氣中的至少一者的氣氛設置在所述空間中的狀態下，使所述滑動面因1.0GPa以上的赫茲接觸應力而與所述被滑動面接觸而相對滑動的滑動步驟，其中通過所述滑動步驟在所述滑動面上形成所述低摩擦覆膜。

2.根據權利要求1所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述氣氛還包含烴類物質。

3.根據權利要求2所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述含羥基化合物和所述烴類物質包含醇。

4.根據權利要求3所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述醇包含甲醇。

5.根據權利要求4所述的低摩擦覆膜的制造方法，

其中所述含羥基化合物還包含水，并且

其中所述氣氛包含從其中液態甲醇對液態甲醇和液態水的體積％濃度為6％至15％的水溶液產生的氣態甲醇和氣態水蒸氣。

6.根據權利要求3所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述醇包含乙醇。

7.根據權利要求6所述的低摩擦覆膜的制造方法，

其中所述含羥基化合物還包含水，并且

其中所述氣氛包含從其中液態乙醇對液態乙醇和液態水的體積％濃度為6％至30％的水溶液產生的氣態乙醇和氣態水蒸氣。

8.根據權利要求7所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述氣氛包含從其中所述液態乙醇對所述液態乙醇和所述液態水的體積％濃度為15％至25％的水溶液產生的氣態乙醇和氣態水蒸氣。

9.根據權利要求3所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述醇包含1-丙醇。

10.根據權利要求3所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述醇包含2-丙醇。

11.根據權利要求3、4、6、9和10中任一項所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中

所述含羥基化合物為從含有100％比率的所述醇的溶液產生的氣態醇。

12.根據權利要求1至10中任一項所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述含羥基化合物包含水。

13.根據權利要求1至10中任一項所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述赫茲接觸應力為1.3GPa至2.4GPa。

14.根據權利要求11所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述赫茲接觸應力為1.3GPa至2.4GPa。

15.根據權利要求12所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述赫茲接觸應力為1.3GPa至2.4GPa。

16.根據權利要求1至10、14和15中任一項所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述非晶態碳基膜包含短鏈聚炔烴類分子作為主要成分。

17.根據權利要求11所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述非晶態碳基膜包含短鏈聚炔烴類分子作為主要成分。

18.根據權利要求12所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述非晶態碳基膜包含短鏈聚炔烴類分子作為主要成分。