[發(fā)明專利]流體緩沖密封裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680007606.5 | 申請日： | 2016-01-26 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN107208618B | 公開（公告）日： | 2019-12-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | V·拉比 | 申請（專利權(quán)）人： | V·拉比 |
| 主分類號(hào)： | F04B39/00 | 分類號(hào)： | F04B39/00;F04B53/14;F16J9/08;F16J15/40;F16J15/46;F16J15/56 |
| 代理公司： | 11313 北京市鑄成律師事務(wù)所 | 代理人： | 張臻賢;屈小春<國際申請>=PCT/FR |
| 地址： | 法國*** | 國省代碼： | 法國;FR |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 流體 緩沖 密封 裝置 | ||
1.一種用于活塞(101)的流體緩沖密封裝置(100)，所述活塞(101)能夠在氣缸(102)中并且沿與所述氣缸(102)相同的軸線以縱向平移的方式移動(dòng)，所述活塞(101)和所述氣缸(102)與至少一個(gè)氣缸蓋(103)一起限定有待密封的腔室(104)，所述流體緩沖密封裝置(100)的特征在于其包括：
●至少一個(gè)連續(xù)穿孔環(huán)(105)，所述至少一個(gè)連續(xù)穿孔環(huán)(105)包括內(nèi)圓柱環(huán)表面(106)、外圓柱環(huán)表面(107)以及兩個(gè)軸向環(huán)表面(108)，所述環(huán)(105)容納在設(shè)置在所述活塞(101)中或所述氣缸(102)中的至少一個(gè)環(huán)形凹槽(109)，同時(shí)所述環(huán)(105)能夠在所述環(huán)形凹槽(109)中徑向移動(dòng)，而不會(huì)離開所述環(huán)形凹槽(109)；所述連續(xù)穿孔環(huán)(105)具有軸向薄部分，以及足夠的柔性以允許在加壓流體源(112)的壓力的影響下其直徑相對于所述凹槽(109)的直徑增大或減小；
●環(huán)形密封構(gòu)件(110)，所述環(huán)形密封構(gòu)件(110)在每個(gè)軸向環(huán)表面(108)與環(huán)形凹槽(109)之間產(chǎn)生密封，以使得所述環(huán)形凹槽(109)與所述連續(xù)穿孔環(huán)(105)一起限定通過傳遞線路(114)連接到加壓流體源(112)的壓力分布腔室(119)；
●至少一個(gè)校準(zhǔn)開口(111)，所述至少一個(gè)校準(zhǔn)開口(111)徹底穿過所述連續(xù)穿孔環(huán)(105)的徑向厚度；
●所述連續(xù)穿孔環(huán)(105)所包括的至少一個(gè)流體緩沖承載表面(116)，所述承載表面(116)布置在與所述壓力分布腔室(119)相對的側(cè)面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體緩沖密封裝置，其特征在于其包括軸向封閉反壓凹部(115)，所述軸向封閉反壓凹部(115)在所述環(huán)形凹槽(109)設(shè)置在所述活塞(101)中的情況下設(shè)置成凹陷在所述外圓柱環(huán)表面(107)上，以使得不由接收所述凹部(115)的所述外圓柱環(huán)表面(107)的所述反壓凹部(115)占用的表面構(gòu)成所述流體緩沖承載表面(116)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體緩沖密封裝置，其特征在于其包括軸向封閉反壓凹部(115)，所述軸向封閉反壓凹部(115)在所述環(huán)形凹槽設(shè)置在所述氣缸(102)中的情況下設(shè)置成凹陷在所述內(nèi)圓柱環(huán)表面(106)上，以使得不由接收所述凹部(115)的所述內(nèi)圓柱環(huán)表面(106)的所述反壓凹部(115)占用的表面構(gòu)成所述流體緩沖承載表面(116)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的流體緩沖密封裝置，其特征在于所述反壓凹部(115)由幾乎在接收所述凹部(115)的所述外圓柱環(huán)表面(107)或所述內(nèi)圓柱環(huán)表面(106)的軸向長度上居中的具有小深度的反壓凹槽(117)組成，所述反壓凹槽(117)在所述外圓柱環(huán)表面(107)或所述內(nèi)圓柱環(huán)表面(106)的整個(gè)圓周上產(chǎn)生。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的流體緩沖密封裝置，其特征在于其包括校準(zhǔn)開口(111)，所述校準(zhǔn)開口(111)通往所述反壓凹部(115)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的流體緩沖密封裝置，其特征在于所述校準(zhǔn)開口(111)通過設(shè)置成凹陷在所述反壓凹部(115)的底部處的壓力分布凹部(125)通往所述反壓凹部(115)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的流體緩沖密封裝置，其特征在于所述壓力分布
凹部(125)由幾乎在接收所述反壓凹部(115)的所述外圓柱環(huán)表面(107)或所述內(nèi)圓柱環(huán)表面(106)的所述軸向長度上居中的壓力分布凹槽(126)組成，所述壓力分布凹槽(126)在所述外圓柱環(huán)表面(107)或所述內(nèi)圓柱環(huán)表面(106)的整個(gè)圓周上產(chǎn)生。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的流體緩沖密封裝置，其特征在于接收所述反壓凹部(115)的所述外圓柱環(huán)表面(107)或所述內(nèi)圓柱環(huán)表面(106)的兩個(gè)軸向邊緣中的至少一個(gè)終止于邊緣電鍍余隙(118)。
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