[發明專利]用于在外磁場中產生X射線輻射的設備在審
| 申請號: | 201680007531.0 | 申請日: | 2016-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN107210174A | 公開(公告)日: | 2017-09-26 |
| 發明(設計)人: | O.海德;A.蓋斯勒;S.戈斯曼 | 申請(專利權)人: | 西門子公司 |
| 主分類號: | H01J35/06 | 分類號: | H01J35/06;H01J35/10 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 李雪瑩,宣力偉 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 在外 磁場 產生 射線 輻射 設備 | ||
1.用于在外磁場(50)中產生X射線輻射的設備,所述外磁場能夠通過磁場裝置產生,所述設備包括:
-用于產生電子束(30)的陰極(10);
-用于使電子束(30)的電子減速并且用于產生X射線束(50)的陽極(20);
-用于產生電場的裝置,該電場由陽極(20)朝陰極(10)的方向指向并且與外磁場(50)基本上共線;
其中所述陰極(10)包括冷陰極作為電子發射體(12),所述冷陰極無源地借助場致發射提供自由電子。
2.根據權利要求1所述的設備,其中所述電子發射體(12)線形地構造。
3.根據權利要求1或2所述的設備,其中所述電子發射體(12)在橫截面(13)中相對于軸向的延伸方向具有凸形的表面,其中所述凸形的表面僅朝陽極(20)的方向延伸。
4.根據前述權利要求中任一項所述的設備,其中所述電子發射體(12)在橫截面(13)中相對于軸向的延伸方向具有半柱體的形狀。
5.根據前述權利要求中任一項所述的設備,其中所述陰極(10)包括基底(11),在所述基底上布置有所述電子發射體(12)。
6.根據權利要求2至4中任一項所述的設備,其中所述軸向的延伸方向平行于第一方向(x)或與其有一角度地延伸,所述第一方向垂直于電場的第三方向(z)和橫向于該電場的第二方向(y)而延伸,其中所述陽極(20)的撞擊面位于如下平面中:該平面平行于所述第二方向(y)并且與所述第一方向呈銳角地延伸。
7.根據前述權利要求中任一項所述的設備,其中所述發射體(10)由基于碳的一種材料或多種材料構成。
8.根據前述權利要求中任一項所述的設備,其中所述發射體(10)具有不規則的表面。
9.根據前述權利要求中任一項所述的設備,其中設置了用于在陰極(10)和陽極(20)之間提供第一電壓的電壓源(40)。
10.根據權利要求1至8中任一項所述的設備,其中在所述陽極(20)和所述陰極(10)之間布置有另外的電極,其中設置了用于在陰極(10)和所述另外的電極之間提供第二電壓的電壓源。
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