[發明專利]水處理裝置及水處理方法有效
| 申請號： | 201680007375.8 | 申請日： | 2016-01-21 |
| 公開（公告）號： | CN107207297B | 公開（公告）日： | 2021-03-16 |
| 發明（設計）人： | 山內登起子;安永望 | 申請（專利權）人： | 三菱電機株式會社 |
| 主分類號： | C02F1/78 | 分類號： | C02F1/78;G01N33/18 |
| 代理公司： | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人： | 賈成功 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 水處理 裝置 方法 | ||
1.一種水處理裝置，其具備：
向導入而容納被處理水的處理槽中注入臭氧氣體的臭氧注入設備；
使用至少第1波長來測定多個地點處的所述被處理水的紫外吸光度的測定部；和
控制器，其基于通過所述測定部所測定的所述多個地點處的測定結果，對于所述處理槽中被臭氧處理后的處理水，推定所述第1波長的紫外吸光度的殘存率，使用推定的所述殘存率來控制所述臭氧注入設備的臭氧注入率，
所述被處理水含有與第1波長的紫外吸光度相關的有機物及腐殖物物質，
所述測定部具有：
對于被導入所述處理槽的所述被處理水，測定包含所述第1波長及第2波長的2種以上的波長的紫外吸光度的第1測定器；和
對于在所述處理槽中被臭氧處理后的處理水，測定所述第1波長的紫外吸光度的第3測定器，
所述第1波長為240nm以上且270nm以下，所述第2波長為200nm以上且230nm以下，
所述控制器在進行基于推定的所述殘存率的所述臭氧注入率的控制時，
由采用所述第1測定器得到的所述第2波長的測定值，算出所述處理水的第1波長的紫外吸光度的殘存率推定值并將其設定為目標值，
通過所述第3測定器的所述第1波長的測定值除以所述第1測定器的第1波長的測定值，算出所述處理水的第1波長的紫外吸光度的殘存率測定值，
控制所述臭氧注入率以使得設定為所述目標值的所述第1波長的紫外吸光度的殘存率推定值與所述處理水的第1波長的紫外吸光度的殘存率測定值之差變為最小。
2.一種水處理裝置，其具備：
向導入而容納被處理水的處理槽中注入臭氧氣體的臭氧注入設備；
使用至少第1波長來測定多個地點處的所述被處理水的紫外吸光度的測定部；和
控制器，其基于通過所述測定部所測定的所述多個地點處的測定結果，對于所述處理槽中被臭氧處理后的處理水，推定所述第1波長的紫外吸光度的殘存率，使用推定的所述殘存率來控制所述臭氧注入設備的臭氧注入率，
所述被處理水含有與第1波長的紫外吸光度相關的有機物，
在使所述多個地點為由在所述處理槽的入口設置的第1測定地點、在所述處理槽內設置的第2測定地點和在所述處理槽的出口設置的第3測定地點組成的3個地點的情況下，所述測定部具有：
對于所述第1測定地點處的所述被處理水，測定所述第1波長的紫外吸光度的第1測定器；
對于所述第2測定地點處的所述被處理水，測定所述第1波長的紫外吸光度的第2測定器；和
對于所述第3測定地點處的所述處理水，測定所述第1波長的紫外吸光度的第3測定器，
所述第1波長為240nm以上且270nm以下，
就所述控制器而言，
由采用所述第1測定器得到的測定值算出所述第1測定地點處的所述被處理水的所述第1波長的紫外吸光度的殘存率作為第1殘存率，
由采用所述第2測定器得到的測定值算出所述第2測定地點處的所述被處理水的所述第1波長的紫外吸光度的殘存率作為第2殘存率，
由采用所述第3測定器得到的測定值算出所述第3測定地點處的所述處理水的所述第1波長的紫外吸光度的殘存率作為第3殘存率，
作成由所述第1殘存率和所述第2殘存率導出的1次函數，
算出以所述第3殘存率作為因變數時的所述1次函數中的自變數，基于算出的所述自變數來控制所述臭氧注入率。
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