[發明專利]包括水垢容器的用于生成蒸汽的裝置和方法及具有這種裝置的蒸汽處理器具有效
| 申請號: | 201680006913.1 | 申請日: | 2016-01-12 |
| 公開(公告)號: | CN107208877B | 公開(公告)日: | 2021-07-02 |
| 發明(設計)人: | 徐志鋒;M·瓦利雅姆巴斯克里施南;彭雁玲;M·V·戴特 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | F22B1/28 | 分類號: | F22B1/28;F22B27/16;D06F75/18 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 鄭立柱 |
| 地址: | 荷蘭艾恩*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 包括 水垢 容器 用于 生成 蒸汽 裝置 方法 具有 這種 處理 器具 | ||
本發明涉及用于生成蒸汽的裝置(1)。裝置(1)包括形成表面的板(2)和用以將板(2)加熱至至少高于水蒸發溫度的預定溫度的加熱元件(3)。板(2)相對于水平方向成角度傾斜以限定上端部和下端部。裝置(1)還包括:用于將水接近上端部分配到板(2)上的水入口裝置(4),用以控制分配到板(2)上的水的流動的控制單元(11),和鄰近板(2)布置的水垢收集容器(5)。控制單元(11)被配置成控制分配到板(2)上的水的流動和板(2)的溫度使得分配到板(2)上的基本上所有的水在其到達板(2)的下端部(15)之前蒸發。多虧板表面的傾斜角度引起逐出的水垢沿板的表面朝向板的下端部向下行進并最終進入容器中,本發明允許容易的水垢收集。
技術領域
本發明涉及蒸汽發生裝置、特別是允許收集水垢的蒸汽發生裝置。
背景技術
水加熱裝置設計成基本上提高水體的溫度并且在一些情況中生成蒸汽,水加熱裝置已知易于在熱源上形成水垢的沉積。通常受影響的裝置包括諸如煮水器等的蒸汽發生裝置,以及諸如水壺等的常規水加熱裝置。
當諸如鈣和鎂的硫酸鹽或碳酸鹽等溶于水的固體隨著水變成蒸汽而沉積時,形成水垢。成層的水垢圍繞熱源創建了絕緣層并且降低了水加熱過程的能量效率和速度。此外,水垢的絕緣層可以引起熱源積聚過多的熱,使得工作部件的溫度超過安全和可靠操作所要求的溫度。
與水垢相關聯的另一問題在于,水垢的小碎片會在蒸汽發生期間被分離并且被夾帶在蒸汽流動中。在蒸汽熨斗的示例中,水垢的這些小碎片沉積在衣服上,引起衣服被弄臟。
典型地通過用弱酸清潔或通過物理刮除水垢而從熱源上去除水垢。兩個選項都牽涉到精力和費用并且要求推遲蒸汽發生過程。
替代地,可以通過化學處理水以去除溶解固體來防止水垢形成。通常采用離子交換方法來降低總的溶解固體量,其中布置浸漬有鈉離子的樹脂以用來自周圍的水中的溶解固體的離子來交換鈉離子。不利的是,該方法要求附加過程和配套設備來執行,這會增加蒸汽發生的成本和復雜性。
傳統的蒸汽發生裝置要求整個加熱元件被水源浸沒,使得在系統的平衡中,加熱元件和水垢層被維持在恒定的溫度。最新的技術已經出現,通過將水滴到受熱表面上而生成蒸汽,引起板和水垢層的突然的溫度波動。溫度波動引起水垢中的機械應力,如果大于水垢的拉伸強度,則會引起水垢破裂。水垢于是更容易通過沖洗或物理刮擦受熱表面而去除。
滴到受熱表面上的水形成膜并且歸因于板表面狀態和水的表面張力而跨表面遷移。這導致水的不均勻且不可預測的分布,并因此導致水垢的不均勻且不可預測的分布。在水集中或聚集的區域中,形成難以破裂的較厚的水垢沉積。
US 4,091,551中公開了一種用于蒸汽熨斗的底板。文獻中所公開的底板包括具有上和下端部的與水平成一角度傾斜的板。底板進一步包括用以加熱底板(包括板)的加熱元件和用于將水分配到板上的水入口裝置。底板被加熱至使水蒸發的溫度。
發明內容
本發明的目的是提出一種避免或減輕上述問題的用于生成蒸汽的裝置。
本發明由獨立權利要求限定。從屬權利要求限定了有利實施例。
根據本發明,提供有一種用于生成蒸汽的裝置。
本發明涉及一種用于生成蒸汽的裝置。裝置包括形成表面的板,和用以將板加熱至至少高于水蒸發溫度的預定溫度的加熱元件。板相對于水平方向成角度傾斜以限定上端部和下端部,所述板部分地由壁接界,所述壁被配置成確保水朝向所述下端部被引導下所述板。裝置還包括用于將水接近上端部分配到板上的水入口裝置,和用以控制分配到板上的水的流動的控制單元。水垢收集容器鄰近板的下端部布置并且包括底表面部。控制單元被配置成控制板的預定溫度使得分配到板上的基本上所有的水在其到達板的下端部之前蒸發。
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