[發(fā)明專利]阻斷閥和原料容器用阻斷閥有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201680005945.X | 申請日: | 2016-01-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107208821B | 公開(公告)日: | 2019-07-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 小山剛記 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社開滋SCT |
| 主分類號(hào): | F16K27/00 | 分類號(hào): | F16K27/00;F16K11/22;F16K49/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 張雨;劉林華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 阻斷 原料 容器 | ||
提供一種阻斷閥及原料容器用阻斷閥,前述阻斷閥及原料容器用阻斷閥具有在內(nèi)部不存在液體材料、洗滌液等的滯留部的構(gòu)造,并且能夠?qū)_洗處理以較短時(shí)間進(jìn)行,適合于高純度的液體材料的使用。阻斷閥(10)為,將與阻斷體(11)的供給路徑(14)連通的主流路(18)的一方與相對于前述阻斷體(11)配設(shè)成傾斜狀態(tài)的第1隔膜閥(12)的第1極小端口部(21)連結(jié),并且將前述主流路(18)的另一方與第2隔膜閥(13)的第2極小端口部(22)連結(jié),借助前述第2隔膜閥(13)的端口(25)和供給端口部(15)連通,并且將前述第1隔膜閥(12)的接合端口部(23)和垂直方向的連接管路(16)借助連通路(19)連結(jié),該連通路(19)設(shè)置成傾斜狀的傾斜流路。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及阻斷閥和原料容器用阻斷閥,特別地,涉及被應(yīng)用于安裝于將液體材料供給于半導(dǎo)體制造裝置的原料容器來使用的原料容器用阻斷閥,涉及在閥內(nèi)部不滯留液體材料或洗滌液等殘液的構(gòu)造的原料容器用阻斷閥。
背景技術(shù)
在包括半導(dǎo)體制造工序的電子元件制造中的通過CVD法等進(jìn)行成膜的情況下,作為有機(jī)金屬的前驅(qū)體,例如采用高純度的TDMAT(四(二甲氨基)鈦:Tetrakis(Dimethylamino)Titanium)等成膜用的液體。有以下的情況:該液體材料(TDMAT等)被收納于原料容器,在原料容器上連接有氣體導(dǎo)入管和排出管,從氣體導(dǎo)入管送入He、N2等非活性的載送氣體,將原料容器內(nèi)部加壓,將被收納于原料容器內(nèi)的液體材料經(jīng)由排出管向半導(dǎo)體制造裝置供給。
在該排出管的中途,例如設(shè)置有控制液體材料向半導(dǎo)體制造裝置的供給的閘閥,此外,在該閘閥的2次側(cè)(半導(dǎo)體制造裝置側(cè)),使將沖洗氣體導(dǎo)入排出管、朝向半導(dǎo)體制造裝置的供給管路的沖洗管分岔。在從排出管分岔的沖洗管的中途設(shè)置有沖洗閥,前述沖洗閥通常被封閉,在沖洗處理時(shí)為了導(dǎo)入沖洗氣體而被開放。此外,在這些排出管、氣體導(dǎo)入管及沖洗管的下游側(cè),安裝有連接器,能夠在將排出管及氣體導(dǎo)入管連接于原料容器的狀態(tài)下,將原料容器從朝向半導(dǎo)體制造裝置的供給管路等分離。
在原料容器變空的情況下、將其他種類的液體材料供給于半導(dǎo)體制造裝置的情況下,將原料容器從半導(dǎo)體制造裝置卸下之前進(jìn)行沖洗處理,進(jìn)行殘留于排出管、供給管路的內(nèi)部的液體材料的除去。在沖洗處理時(shí),將閘閥關(guān)閉,并且打開設(shè)置于沖洗管的沖洗閥,將沖洗氣體從沖洗氣體供給源導(dǎo)入至沖洗管。沖洗氣體從沖洗管經(jīng)由分岔部在包括排出管的供給管路中流動(dòng),被排出至半導(dǎo)體制造裝置外。通過該沖洗氣體的供給,能夠?qū)埩粲谂懦龉芗耙合喙苈返膬?nèi)部的液體材料除去。
然而,在將這樣的管路(管)和閥組合的以往的結(jié)構(gòu)的原料容器用閥中,需要在設(shè)置于排出管的閘閥的上部使沖洗管分岔,所以構(gòu)成為閘閥和沖洗閥在上下方向上堆疊,在閘閥和沖洗閥之間的管路上形成液體材料的滯留部(無效容積)。因此,在沖洗處理時(shí),殘留于管路的液體材料的除去能夠在比較短的時(shí)間內(nèi)進(jìn)行,但殘留于該無效容積的液體材料的除去較困難,沖洗處理需要的時(shí)間變長。
特別地,在使用的液體材料是TDMAT等蒸氣壓較低的化學(xué)物質(zhì)的情況下,為了將殘留于該滯留部的液體材料完全除去,需要長時(shí)間的沖洗處理,在沖洗處理時(shí)間上需要較長時(shí)間,這將降低半導(dǎo)體制造裝置的工作效率,成為妨礙生產(chǎn)率的提高的重大要因。
此外,在沖洗處理不充分的情況下,液體材料殘留于無效容積。因此,此后,若將收納有其他種類的液體材料的原料容器連接于半導(dǎo)體制造裝置來開始該液體材料的供給,則殘存于供給管路的液體材料的成分混入該液體材料,無論是否要求高純度或超高純度的液體材料,被污染的液體材料都被供給于半導(dǎo)體制造裝置。
在作為這種容器用閥被提出的專利文獻(xiàn)1中,已知一種原料容器用閥歧管,前述原料容器用閥歧管為了即使在使用蒸氣壓較低的高純度的液體材料的情況下,仍能夠在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行沖洗處理,以低無效容積來構(gòu)成。該閥歧管使兩個(gè)隔膜閥的隔膜面互相相向,配設(shè)于歧管塊,并且將連結(jié)這些閥的閥口的流路、及從外部連通于各閥的端口的流路設(shè)置于歧管塊內(nèi)。
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