[發(fā)明專利]用于滑動磁性微粒分離的適配器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680005548.2
• 申請日: 2016-01-11
• 公開（公告）號: CN107209194B
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發(fā)明（設計）人: 凱文·福西特;格雷戈里·J·魯濱遜;戴維·約翰·古克恩伯格;斯科特·貝里;戴維·J·畢比
• 申請（專利權）人: 吉爾森公司
• 主分類號: G01N35/00
• 分類號: G01N35/00
• 代理公司: 北京派特恩知識產(chǎn)權代理有限公司 11270
• 代理人: 張穎玲;浦彩華

1.一種用于樣品處理系統(tǒng)(100)的滑動頭部(104)的適配器(138，232)，所述適配器包括：

板(300；400)，所述板包括：

頂面(304；410)；

底面(306；412)，其中，所述底面的至少一部分沿著從前壁到后壁的第一方向彎曲并且相對于所述頂面是凹的；

前壁(402)，所述前壁在所述頂面和所述底面之間延伸；以及

后壁(408)，所述后壁在所述頂面和所述底面之間延伸；以及

磁體安裝凹口壁(414b，414d，414f，414h)，所述磁體安裝凹口壁安裝到所述頂面，其中，所述磁體安裝凹口壁(414b，414d，414f，414h)配置為容納樣品處理系統(tǒng)的滑動頭部(104)的磁體，

其中，所述底面(306；412)進一步包括安裝為從所述底面(306；412)沿著與所述頂面(304；410)相反的第二方向延伸的脊(420a-d)，其中，所述脊(420a-d)沿著從所述前壁到所述后壁的所述第一方向彎曲并且相對于所述頂面(304；410)是凹的。

2.根據(jù)權利要求1所述的適配器(138，232)，進一步包括安裝到所述頂面(304；410)的多個磁體安裝凹口壁(414b，414d，414f，414h)，其中，所述磁體安裝凹口壁是所述多個磁體安裝凹口壁(414b，414d，414f，414h)中的一個，其中，所述多個磁體安裝凹口壁(414b，414d，414f，414h)中的每個磁體安裝凹口壁配置為容納所述滑動頭部(104)的多個磁體中的相應的磁體。

3.根據(jù)權利要求2所述的適配器(138，232)，其中，所述多個磁體安裝凹口壁(414b，414d，414f，414h)限定多個磁體安裝凹口并且所述多個磁體安裝凹口以在所述前壁和所述后壁之間的并且沿著所述前壁縱向地延伸的排的方式布置。

4.根據(jù)權利要求1所述的適配器(138，232)，進一步包括多個平行的脊(420a-d)，其中，所述脊是所述多個平行的脊(420a-d)中的一個，其中，所述多個平行的脊(420a-d)中的每個脊安裝為從所述底面(306；412)沿著所述第二方向延伸，其中，所述多個平行的脊(420a-d)中的每個脊沿著所述第一方向彎曲并且相對于所述頂面(304；410)是凹的。

5.根據(jù)權利要求4所述的適配器(138，232)，其中，所述第一方向垂直于所述前壁和所述后壁。

6.根據(jù)權利要求1所述的適配器(138，232)，其中，所述磁體安裝凹口壁(414b，414d，414f，414h)限定磁體安裝凹口并且所述脊(420a-d)定位在所述磁體安裝凹口下面。

7.根據(jù)權利要求1所述的適配器(138，232)，其中，所述磁體安裝凹口壁(414b，414d，414f，414h)限定磁體安裝凹口并且所述脊(420a-d)不定位在所述磁體安裝凹口(414b，414d，414f，414h)下面。

8.根據(jù)權利要求1所述的適配器(138，232)，其中，所述脊(420a-d)沿著所述底面(306；412)從所述前壁到所述后壁延伸。

9.根據(jù)權利要求8所述的適配器(138，232)，其中，所述脊(420a-d)的寬度小于由所述磁體安裝凹口壁(414b，414d，414f，414h)限定的磁體安裝凹口的寬度。

10.根據(jù)權利要求1所述的適配器(138，232)，進一步包括安裝到所述頂面(304；410)的剛性構件接納壁，其中，耳片安裝到所述剛性構件接納壁的外表面并且從所述外表面向外延伸。

11.根據(jù)權利要求10所述的適配器(138，232)，其中，所述剛性構件接納壁進一步包括多個耳片，其中，所述耳片是所述多個耳片中的一個，其中，所述多個耳片中的每個耳片安裝到所述剛性構件接納壁的所述外表面并且從所述外表面向外延伸。