[發(fā)明專利]拋光布整理方法以及拋光方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201680004879.4
• 申請(qǐng)日: 2016-01-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107148666B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-08-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 佐佐木拓也;田中佑宜
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 信越半導(dǎo)體株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/02
• 分類號(hào): H01L21/02;H01L21/304;H01L21/67;G01N23/223;B24B37/00;B24B37/24
• 代理公司: 北京京萬(wàn)通知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11440
• 代理人: 許天易

1.一種拋光布的整理方法，該拋光布用于拋光硅晶圓，該整理方法包含：將由聚胺酯樹(shù)脂所制的拋光布貼附于拋光機(jī)而進(jìn)行修整后，進(jìn)行假拋光；

接著，對(duì)于借由該假拋光而蓄積于該拋光布中的拋光殘?jiān)M(jìn)行去除處理；

接著，測(cè)定該拋光布中的拋光殘?jiān)浚一谠撍鶞y(cè)定的拋光殘?jiān)慷卸ń?jīng)該假拋光后的拋光布的整理狀態(tài)；

其中，預(yù)先地使用經(jīng)單獨(dú)進(jìn)行另外地修整后的聚胺酯樹(shù)脂制的基準(zhǔn)用拋光布而進(jìn)行硅晶圓的拋光，且通過(guò)與該假拋光后的去除處理相同方式進(jìn)行拋光殘?jiān)娜コ幚恚⑦M(jìn)行該去除處理后的拋光殘?jiān)康臏y(cè)定；

先求出基準(zhǔn)用拋光布的使用時(shí)間除以預(yù)先設(shè)定好的基準(zhǔn)用拋光布的壽命的值在0.05的時(shí)間點(diǎn)時(shí)基準(zhǔn)用拋光布中的拋光殘?jiān)坑枰宰鳛榛鶞?zhǔn)值，以在該假拋光及去除處理后所測(cè)定出的拋光殘?jiān)繛樵谠摶鶞?zhǔn)值以上時(shí)，則判定經(jīng)進(jìn)行該假拋光的拋光布為經(jīng)整理。

2.如權(quán)利要求1所述的拋光布整理方法，其中

自通過(guò)熒光X射線分析法所得到的熒光X射線頻譜所檢測(cè)出包含Si-Kα射線的訊號(hào)，而測(cè)定該拋光殘?jiān)俊?/p>

3.如權(quán)利要求1或2所述的拋光布整理方法，其中

通過(guò)修整以及高壓噴射水洗凈來(lái)進(jìn)行該拋光殘?jiān)娜コ幚怼?/p>

4.如權(quán)利要求1或2所述的拋光布整理方法，其中

該拋光機(jī)設(shè)為雙面拋光機(jī)。

5.如權(quán)利要求3所述的拋光布整理方法，其中

該拋光機(jī)系設(shè)為雙面拋光機(jī)。

6.一種拋光方法，使用拋光布拋光硅晶圓，該拋光方法包含：

將由聚胺酯樹(shù)脂所制的拋光布貼附于拋光機(jī)而進(jìn)行修整后，進(jìn)行假拋光；

接著，對(duì)于借由該假拋光而蓄積于該拋光布中的拋光殘?jiān)M(jìn)行去除處理；

接著，測(cè)定該拋光布中的拋光殘?jiān)浚一谠撍鶞y(cè)定的拋光殘?jiān)慷x出使用于該硅晶圓的拋光中的拋光布，并使用該選出的拋光布進(jìn)行該硅晶圓的拋光；

其中，預(yù)先地使用經(jīng)單獨(dú)進(jìn)行另外地修整后的聚胺酯樹(shù)脂制的基準(zhǔn)用拋光布而進(jìn)行硅晶圓的拋光，且通過(guò)與該假拋光后的去除處理相同的方式進(jìn)行拋光殘?jiān)娜コ幚恚⑦M(jìn)行該去除處理后的拋光殘?jiān)康臏y(cè)定；

先求出基準(zhǔn)用拋光布的使用時(shí)間除以預(yù)先設(shè)定好的基準(zhǔn)用拋光布的壽命的值在0.05的時(shí)間點(diǎn)時(shí)的基準(zhǔn)用拋光布中的拋光殘?jiān)坑枰宰鳛榛鶞?zhǔn)值，以選出在該假拋光以及去除處理后所測(cè)定出的拋光殘?jiān)繛樵谠摶鶞?zhǔn)值以上的拋光布作為于該硅晶圓的拋光中使用的拋光布。

7.如權(quán)利要求6所述的拋光方法，其中

自通過(guò)熒光X射線分析法所得到的熒光X射線頻譜所檢測(cè)出包含Si-Kα射線的訊號(hào)，而測(cè)定該拋光殘?jiān)俊?/p>

8.如權(quán)利要求6或7所述的拋光方法，其中

通過(guò)修整以及高壓噴射水洗凈來(lái)進(jìn)行該拋光殘?jiān)娜コ幚怼?/p>

9.如權(quán)利要求6或7所述的拋光方法，其中

該拋光機(jī)設(shè)為雙面拋光機(jī)。

10.如權(quán)利要求8中所述的拋光方法，其中

該拋光機(jī)設(shè)為雙面拋光機(jī)。