[發明專利]用于非易失性存儲器的高電壓架構在審
| 申請號: | 201680004568.8 | 申請日: | 2016-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN107112368A | 公開(公告)日: | 2017-08-29 |
| 發明(設計)人: | 波格丹·喬蓋斯庫;加里·莫斯卡魯克;維賈伊·拉加萬;伊葛·葛茲尼索夫 | 申請(專利權)人: | 賽普拉斯半導體公司 |
| 主分類號: | H01L29/80 | 分類號: | H01L29/80;H01L31/113 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司11262 | 代理人: | 陸建萍,楊明釗 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 非易失性存儲器 電壓 架構 | ||
1.一種方法,包括:
在擦除操作期間,擦除存儲器設備的非易失性存儲器(NVM)單元,所述擦除包括:
將第一HV信號(VPOS)應用于共源極線(CSL),其中,在NVM單元的扇區的NVM單元之間共用所述CSL,并且其中,所述第一HV信號高于電源的最高電壓;以及
將所述第一HV信號應用到局部位線(BL)。
2.根據權利要求1所述的方法,其中,在所述擦除操作期間擦除所述NVM單元還包括:
將第二HV信號(VNEG)應用于被耦合到所述NVM單元的第一字線(WLS),其中,所述第二HV信號低于所述存儲器設備的接地供應的最低電壓;以及
將所述第一HV信號應用到被耦合到所述NVM單元的襯底線(SPW)。
3.根據權利要求1所述的方法,還包括:
在編程操作期間,對所述存儲器設備的NVM單元進行編程,所述編程包括:
將第二HV信號(VNEG)應用于被耦合到所述NVM單元的襯底線(SPW)和第二字線(WL),其中,所述第二HV信號低于所述存儲器設備的接地供應的最低電壓;以及
對被耦合到所述NVM單元的所述CSL應用第三HV信號(VNEG3)。
4.根據權利要求3所述的方法,還包括:
在所述編程操作期間,通過向所述局部位線(BL)應用電壓信號來禁止所述NVM單元,其中,所述電壓信號在所述電源的電壓范圍內。
5.根據權利要求1所述的方法,還包括:
在讀取操作期間,通過對第二字線(WL)應用第四HV信號(VBST)來讀取所述NVM單元,其中,所述第四HV信號高于所述電源的最高電壓。
6.根據權利要求1所述的方法,其中,所述NVM單元是電荷俘獲存儲器單元。
7.根據權利要求1所述的方法,其中,所述NVM單元是硅-氧化物-氮化物-氧化物-硅(SONOS)存儲器單元。
8.根據權利要求1所述的方法,其中,在所述NVM扇區的NVM單元的多個行與NVM單元的多個列之間共用所述CSL。
9.一種系統,包括:
非易失性存儲器(NVM)單元,所述非易失性存儲器單元被耦合到共源極線(CSL),其中,在扇區的多個NVM單元之間共用所述CSL;以及
電壓控制電路,所述電壓控制電路用于在保持安全工作區(SOA)的同時控制用于所述NVM單元的操作的多個高電壓(HV)信號,其中,所述多個HV信號高于存儲器設備的電源的最高電壓或低于接地供應的最低電壓。
10.根據權利要求9所述的系統,還包括:
扇區選擇電路,所述扇區選擇電路被耦合到所述扇區的NVM單元的列,以控制應用于局部位線(BL)的位線電壓,所述扇區選擇電路包括三個金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)。
11.根據權利要求9所述的系統,還包括:
局部位線(BL),所述局部位線(BL)被耦合到所述NVM單元;以及
所述電壓控制電路用于在擦除操作期間向所述CSL和BL應用第一HV信號(VPOS)以擦除所述NVM單元,其中,所述第一HV信號高于所述電源的最高電壓。
12.根據權利要求11所述的系統,還包括:
字線(WL),所述字線(WL)被耦合到所述NVM單元;以及
所述電壓控制電路用于在編程操作期間向所述WL和襯底線(SPW)應用第二高電壓(HV)信號(VNEG),以對所述NVM單元進行編程,其中,所述第一HV信號低于所述存儲器設備的接地供應的最低電壓。
13.根據權利要求10所述的系統,其中,所述扇區選擇電路包括:
第一N通道金屬氧化物半導體場效應晶體管(nMOSFET),其包括第一柵極、第一阱、第一源極和被耦合到所述BL的第一漏極;
第二nMOSFET,所述第二nMOSFET包括第二柵極、第二阱、第二漏極和被耦合到所述BL的第二源極;以及
P通道金屬氧化物半導體場效應晶體管(pMOSFET),其包括第三柵極、第三阱、第三漏極和被耦合到所述BL的第三源極。
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