[發明專利]液晶滴下工藝用密封劑、上下導通材料及液晶顯示元件

在審

• 申請號: 201680003866.5
• 申請日: 2016-05-26
• 公開（公告）號: CN107003579A
• 公開（公告）日: 2017-08-01
• 發明（設計）人: 寺口祐美子
• 申請（專利權）人: 積水化學工業株式會社
• 主分類號: G02F1/1339
• 分類號: G02F1/1339;C09K3/10
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司11021
• 代理人: 蔣亭

技術領域

本發明涉及遮光性及高溫高濕環境下的粘接性優異的液晶滴下工藝用密封劑。另外，本發明還涉及使用該液晶滴下工藝用密封劑而制造的上下導通材料及液晶顯示元件。

背景技術

近年來，就液晶顯示單元等液晶顯示元件的制造方法而言，從縮短生產節拍時間、優化使用液晶量的觀點出發，會使用專利文獻1、專利文獻2所公開那樣的、含有固化性樹脂、光聚合引發劑和熱固化劑的光熱并用固化型的密封劑的被稱作滴下工藝的液晶滴下方式。

在滴下工藝中，首先，在2個帶電極的基板中的一個基板上利用分配器形成長方形狀的密封圖案。接著，在密封劑未固化的狀態下將液晶的微小滴滴加到基板的密封框內，并在真空下重疊另一基板，對密封部照射紫外線等光，進行預固化。之后，加熱而進行主固化，制作液晶顯示元件。現在該滴下工藝成為液晶顯示元件的制造方法的主流。

但是，在便攜電話、便攜游戲機等各種帶液晶面板的移動設備普及的現代中，裝置的小型化為最需要解決的課題。作為小型化的方法，可列舉液晶顯示部的窄邊緣化，例如，進行將密封部的位置配置在黑矩陣下(以下，也稱作窄邊緣設計)的設計。

然而，在使用透明或乳白色的密封劑的情況下，即使是原本應該抑制漏光的黑矩陣，也無法遮蔽透過密封劑的光，存在導致降低所得的液晶顯示元件的對比度的問題。

因此，為了對密封劑賦予遮光性，考慮進行添加遮光劑的方法。例如在專利文獻1～3中公開了含有鈦黑系材料、炭黑系材料或其他遮光性微粒的密封劑作為遮光劑，在這些遮光劑中，優選絕緣性高的鈦黑系材料。

近年來，對于對比度高且顯示性能優異的液晶顯示元件的要求日益變高，為了發揮與之對應的充分的遮光性，需要在密封劑中配合較大量的鈦黑。另一方面，隨著平板終端、便攜終端的普及，對液晶顯示元件要求在高溫高濕環境下驅動等耐濕可靠性，含有大量鈦黑的密封劑若曝露在高溫高濕的環境中，則存在粘接性顯著降低的問題。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2001－133794號公報

專利文獻2：國際公開第02/092718號

專利文獻3：日本特開2007-106658號公報

發明內容

發明要解決的課題

本發明的目的在于，提供遮光性及高溫高濕環境下的粘接性優異的液晶滴下工藝用密封劑。另外，本發明的目的還在于，提供使用該液晶滴下工藝用密封劑制造的上下導通材料及液晶顯示元件。

用于解決課題的手段

本發明為一種液晶滴下工藝用密封劑，其含有固化性樹脂、自由基聚合引發劑和/或熱固化劑、和鈦黑，上述鈦黑中的二氧化鈦的含量為10重量％以下。

以下對本發明進行詳細敘述。

鈦黑通常通過將白色的二氧化鈦粉末在真空中、氨的存在下加熱并還原來制造。本發明人發現：利用此種制造方法得到的一般所使用的鈦黑的還原并不充分，而較多地殘留二氧化鈦。因此，本發明人發現：通過將鈦黑更充分地還原，從而將鈦黑中所含的二氧化鈦的含量降低至特定值以下，所得的鈦黑即使未大量地配合到密封劑中，也能發揮充分的遮光性，由此完成本發明。另外，本發明的液晶滴下工藝用密封劑即使未含有大量該鈦黑，也具有充分的遮光性，因此在高溫高濕環境下的粘接性優異。

本發明的液晶滴下工藝用密封劑含有鈦黑。上述鈦黑具有作為遮光劑的作用。使用含有上述鈦黑作為遮光劑的本發明的液晶滴下工藝用密封劑而制造的液晶顯示元件不漏光且具有高對比度，具有優異的圖像顯示品質。

上述鈦黑是，與對于波長300～800nm的光的平均透射率相比而對于紫外線區域附近、特別是波長370～450nm的光的透射率更高的物質。即，上述鈦黑是具有如下性質的遮光劑：通過充分遮蔽可見光區域的波長的光而對本發明的液晶滴下工藝用密封劑賦予遮光性、另一方面使紫外線區域附近的波長的光透過的性質。因此，作為后述的光自由基聚合引發劑，使用通過上述鈦黑的透射率變高的波長(370～450nm)的光而能夠引發反應的物質，由此能夠使本發明的液晶滴下工藝用密封劑的光固化性進一步增大。

上述鈦黑中的二氧化鈦的含量的上限為10重量％。若上述二氧化鈦的含量超過10重量％，則為了發揮充分的遮光性而需要大量配合上述鈦黑，所得的液晶滴下工藝用密封劑在高溫高濕環境下的粘接性或描繪性差。上述二氧化鈦的含量的優選的上限為8重量％、更優選的上限為5重量％、進一步優選的上限為1重量％、最優選不含有二氧化鈦。