[發(fā)明專利]通過鎂熱還原用于生產硅的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201680003687.1
• 申請日: 2016-10-24
• 公開（公告）號: CN107074560B
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發(fā)明（設計）人: 彼得·吉格萊爾;于爾根·施托雷爾
• 申請（專利權）人: 瓦克化學股份公司
• 主分類號: C01B33/023
• 分類號: C01B33/023
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 張英;宮傳芝

1.一種用于通過二氧化硅的鎂熱還原生產硅的方法，其中

為了實現鎂熱還原，采用包含二氧化硅、鎂和作為緩和劑的氧化鎂和硅、以及可選的一種或多種其他緩和劑的反應物混合物。

2.根據權利要求1所述的用于通過二氧化硅的鎂熱還原生產硅的方法，其中所述反應物混合物包含基于所述緩和劑的總重量的45wt％至95wt％的氧化鎂。

3.根據權利要求1或2所述的用于通過二氧化硅的鎂熱還原生產硅的方法，其中所述反應物混合物包含基于所述緩和劑的總重量的5wt％至55wt％的硅。

4.根據權利要求1或2所述的用于通過二氧化硅的鎂熱還原生產硅的方法，其中通過二氧化硅的鎂熱還原獲得的混合物至少部分用作所述緩和劑。

5.根據權利要求1或2所述的用于通過二氧化硅的鎂熱還原生產硅的方法，其中二氧化硅和鎂的總和與所述緩和劑的重量比為0.05至1。

6.根據權利要求1或2所述的用于通過二氧化硅的鎂熱還原生產硅的方法，其中通過鎂熱還原獲得的產物混合物包含3wt％至40wt％的硅、45wt％至95wt％的氧化鎂和可選的0至40wt％的其他成分，其中報告的wt％值在每種情況下均基于所述產物混合物的總重量，并且對于每種產物混合物，總和為100wt％。

7.根據權利要求1或2所述的用于通過二氧化硅的鎂熱還原生產硅的方法，其中所述鎂熱還原配置為間歇方法或再循環(huán)方法。

8.根據權利要求7所述的用于通過二氧化硅的鎂熱還原生產硅的方法，其中在所述再循環(huán)方法中獲得的產物混合物完全或部分地引入至所述反應物混合物中。

9.根據權利要求8所述的用于通過二氧化硅的鎂熱還原生產硅的方法，其中在所述再循環(huán)方法中獲得的所述產物混合物的50wt％至95wt％引入至所述反應物混合物中作為緩和劑。

10.根據權利要求8或9所述的用于通過二氧化硅的鎂熱還原生產硅的方法，其中70wt％至100wt％的所述緩和劑以所述產物混合物的形式使用。