[發明專利]用于有機光電器件的有機分子有效
| 申請號: | 201680003325.2 | 申請日: | 2016-07-04 |
| 公開(公告)號: | CN107074765B | 公開(公告)日: | 2021-05-25 |
| 發明(設計)人: | M·丹茨;D·辛克 | 申請(專利權)人: | 西諾拉股份有限公司 |
| 主分類號: | C07D209/88 | 分類號: | C07D209/88;C07D209/86;C07D219/14;C07D209/80;C07D487/04;C07D265/38;C07D219/02;C07D417/10;C07D209/08;C07D279/34;C07D215/06;C09K11/06;H01L51/46 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 德國布*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 有機 光電 器件 分子 | ||
1.一種有機分子,其精確具有通過單鍵或橋基Y相互連接的兩個式I的單元,
其中
Y=二價化學基團;
X=CN;
D=具有式I-1結構的化學單元:
其中
#=式I-1的單元與式I的結構的附著點;
A和B=彼此獨立地選自由CRR1、CR、NR、N組成的組,在A和B之間存在單鍵或雙鍵以及在B和Z之間存在單鍵或雙鍵;
Z=直接的鍵或二價有機橋基,所述二價有機橋基為取代或未取代的C1-C9-亞烷基、C2-C8-亞烯基、C2-C8-亞炔基或亞芳基或其組合,-CRR1、-C=CRR1、-C=NR、-NR-、-O-、-SiRR1-、-S-、-S(O)-、-S(O)2-,O-間隔的取代或未取代的C1-C9-亞烷基、C2-C8-亞烯基、C2-C8-亞炔基或亞芳基、苯基單元或取代的苯基單元;
其中每個R和R1在每次出現時相同或不同地為H、氘、疊氮化物(N3-)、F、Cl、Br、I、N(R2)2、CN、CF3、NO2、OH、COOH、COOR2、CO(NR2)2、Si(R2)3、B(OR2)2、C(=O)R2、P(=O)(R2)2、S(=O)R2、S(=O)2R2、OSO2R2,具有1至40個C原子的直鏈烷基、烷氧基或硫代烷氧基,或具有2至40個C原子的直鏈烯基或炔基,或具有3至40個C原子的支鏈或環狀烷基、烯基、炔基、烷氧基或硫代烷氧基,在各情況下可以被一個或多個基團R2取代,一個或多個不相鄰的CH2基團可以被R2C=CR2、C≡C、Si(R2)2、Ge(R2)2、Sn(R2)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR2、P(=O)(R2)、SO、SO2、NR2、O、S或CONR2代替,并且一個或多個H原子可以被氘、F、Cl、Br、I、CN、CF3或NO2代替,或者是具有5至60個芳族環原子的芳族或雜芳族環體系,此環體系可以在各情況下被一個或多個基團R2取代,或者是具有5至60個芳族環原子的芳氧基或雜芳氧基,此基團可以被一個或多個基團R2取代,或者是具有10至40個芳族環原子的二芳基氨基、二雜芳基氨基或芳基雜芳基氨基,此基團可以被一個或多個基團R2取代,或者是這些體系的組合,或是可交聯單元QE,其可以在存在或不存在光引發劑的情況下通過酸催化、熱或UV交聯方法或者通過微波輻射而交聯;任選地這些取代基R和R1中的兩個或更多個可以彼此形成單環或多環、脂族、芳族和/或苯并稠合的環體系;
R2,在每次出現時相同或不同地為H、氘、F、Cl、Br、I、N(R3)2、CN、CF3、NO2、OH、COOH、COOR3、CO(NR3)2、Si(R3)3、B(OR3)2、C(=O)R3、P(=O)(R3)2、S(=O)R3、S(=O)2R3、OSO2R3,具有1至40個C原子的直鏈烷基、烷氧基或硫代烷氧基,或具有2至40個C原子的直鏈烯基或炔基,或具有3至40個C原子的支鏈或環狀烷基、烯基、炔基、烷氧基或硫代烷氧基,在各情況下可以被一個或多個基團R3取代,一個或多個不相鄰的CH2基團可以被R3C=CR3、C≡C、Si(R3)2、Ge(R3)2、Sn(R3)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR3、P(=O)(R3)、SO、SO2、NR3、O、S或CONR3代替,并且一個或多個H原子可以被氘、F、Cl、Br、I、CN、CF3或NO2代替,或者是具有5至60個芳族環原子的芳族或雜芳族環體系,此體系可以在各情況下被一個或多個基團R3取代,或者是具有5至60個芳族環原子的芳氧基或雜芳氧基,此基團可以被一個或多個基團R3取代,或者是具有10至40個芳族環原子的二芳基氨基、二雜芳基氨基或芳基雜芳基氨基,此基團可以被一個或多個基團R3取代,或者是這些體系的組合;其中任選地這些取代基R2中的兩個或更多個可以彼此形成單環或多環、脂族、芳族和/或苯并稠合的環體系;
R3,在每次出現時相同或不同地為H、氘、F、CF3或具有1至20個C原子的脂族、芳族和/或雜芳族烴基團,其中一個或多個H原子也可以被F或CF3代替;其中任選地兩個或更多個取代基R3可以彼此形成單環或多環、脂族環體系;
R'=第二個式I的單元的附著位置或選自由以下組成的組:Y、H、N(R4)2、OR4、具有1至40個C原子的直鏈烷基或烷氧基或具有3至40個C原子的支鏈或環狀烷基或烷氧基,此基團在各情況下可以被一個或多個基團R4取代,和具有5至60個芳族環原子的芳族或雜芳族環體系,此體系在各情況可下被一個或多個基團R4取代;
R”=第二個式I的單元的附著位置或選自由以下組成的組:Y、N(R4)2、OR4、具有1至40個C原子的直鏈烷基或烷氧基或具有3至40個C原子的支鏈或環狀烷基或烷氧基,此基團在各情況下可以被一個或多個基團R4取代,和具有5至60個芳族環原子的芳族或雜芳族環體系,此體系在各情況下可被一個或多個基團R4取代;
其中R’和R”中所述雜芳族環體系不是N-雜芳族;
條件是如果R'為Y,則R”不為Y,并且如果R”為Y,則R'不為Y;
并且條件是如果R'是第二個式I的單元的附著位置,則R”不是第二個式I的單元的附著位置,并且如果R”是第二個式I的單元的附著位置,則R'不是第二個式I的單元的附著位置;
R4,在每次出現時相同或不同地為H、氘、N(R5)2、Si(R5)3、具有1至40個C原子的直鏈烷基、烷氧基或硫代烷氧基,或具有3至40個C原子的支鏈或環狀烷基、烷氧基或硫代烷氧基,此基團在各情況下可以被一個或多個基團R5取代,或者是具有5至60個芳族環原子的芳族或雜芳族環體系,此體系在各情況下可以被一個或多個基團R5取代,或者是具有5至60個芳族環原子的芳氧基或雜芳氧基,此基團可以被一個或多個基團R5取代,或者是具有10至40個芳族環原子的二芳基氨基、二雜芳基氨基或芳基雜芳基氨基,此基團可以被一個或多個基團R5取代,或者是這些體系的組合;其中任選地這些取代基R5中的兩個或更多個可以彼此形成單環或多環、脂族、芳族和/或苯并稠合的環體系;
R5,在每次出現時相同或不同地為H、氘或具有1至20個C原子的脂族、芳族和/或雜芳族烴基;其中任選地兩個或更多個取代基R5還可以彼此形成單環或多環脂族環體系。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于西諾拉股份有限公司,未經西諾拉股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201680003325.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種醫用膠片的保濕裝置
- 下一篇:用于光刻機上的真空檢測裝置





