[發(fā)明專利]一種顯示面板及其制備方法、電子設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110584752.7
• 申請日: 2021-05-27
• 公開（公告）號: CN113314682A
• 公開（公告）日: 2021-08-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 屈財玉;郝艷軍;樊宜冰;張慧娟;蓋人榮;劉政
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京志霖恒遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11435
• 代理人: 郭棟梁

本申請公開了一種顯示面板及其制備方法、電子設(shè)備，其中，一種顯示面板，包括襯底基板以及設(shè)置在所述襯底基板上陣列排布的第一OLED單元和第二OLED單元，所述第一OLED單元包括陽極、陰極以及位于所述陽極背離所述陰極的一側(cè)設(shè)置的反射層，所述反射層位于平坦層中，所述陽極為透明電極，所述陰極為半透明電極。本申請實施例提供的顯示面板，在第一OLED單元的底部設(shè)置反射層，以實現(xiàn)頂發(fā)射功能，為設(shè)置發(fā)射層的第二OLED單元實現(xiàn)底發(fā)射功能，在同一顯示面板上，排布設(shè)置第一OLED單元和第二OLED單元，形成雙面顯示面板。本申請的顯示面板簡化雙面顯示面板中OLED制備流程和工藝，降低生產(chǎn)成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請一般涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種顯示面板及其制備方法、電子設(shè)備。

背景技術(shù)

近年來，OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機(jī)發(fā)光二極管)由于具有主動發(fā)光、發(fā)光亮度高、分辨率高、寬視角、響應(yīng)速度快、低能耗以及可柔性化等特點(diǎn)而受到更多的關(guān)注。降低OLED制造成本、擴(kuò)展OLED新應(yīng)用場景是提升產(chǎn)品競爭力的關(guān)鍵。

適用于中小尺寸的OLED顯示面板中的發(fā)光元件通常都使用蒸鍍工藝制備。如現(xiàn)行蒸鍍量產(chǎn)線上的蒸鍍設(shè)備一般至少會包括8個有機(jī)腔室(OC，Organic Chamber)和1個金屬腔室(MC，Metal Chamber)，用于蒸鍍HTL(Hole Inject Layer；空穴注入層)、R/G/B Prime(電子阻擋層)、R/G/B EML(發(fā)光層)、HBL(Hole Blocking Layer；空穴阻擋層)、ETL(Electron Transport Layer；電子傳輸層)、Cathode(陰極)、CPL(Capping Layer；光提取層)等材料。

現(xiàn)行蒸鍍量產(chǎn)線上會使用至少5張精細(xì)掩膜版(FMM，F(xiàn)ine Metal Mask)蒸鍍R/G/B電子阻擋層與發(fā)光層，以滿足R/G/藍(lán)色對微腔(Micro Cavity)腔長的不同需求，滿足R/G/B發(fā)光層對不同能級、遷移率的電子阻擋層材料的需求。昂貴的蒸鍍機(jī)設(shè)備和FMM備件使得OLED面板的生產(chǎn)成本增大，減少蒸鍍腔室和Mask的使用勢必會降低生產(chǎn)成本。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷或不足，期望提供一種顯示面板及其制備方法、電子設(shè)備，可以實現(xiàn)雙面顯示，并且能夠降低OLED的生產(chǎn)成本。

第一方面，本申請?zhí)峁┝艘环N顯示面板，包括襯底基板以及設(shè)置在所述襯底基板上陣列排布的第一OLED單元和第二OLED單元，所述第一OLED單元包括陽極、陰極以及位于所述陽極背離所述陰極的一側(cè)設(shè)置的反射層，所述反射層與所述陽極間隔設(shè)置，所述陽極為透明電極，所述陰極為半透明電極。

進(jìn)一步地，所述第一OLED單元和所述第二OLED單元沿第一方向和/或第二方向依次交替設(shè)置。

優(yōu)選地，所述第一OLED單元和所述第二OLED單元均包括發(fā)光元件以及設(shè)置在所述發(fā)光元件下方的陣列基板，所述發(fā)光元件包括層疊設(shè)置的所述陰極、發(fā)光層、所述陽極，所述陣列基板包括平坦層以及設(shè)置在所述平坦層上方的像素界定層，所述像素界定層上設(shè)置有用于形成所述發(fā)光元件的開口。

進(jìn)一步地，所述反射層上設(shè)置有對應(yīng)所述開口位置的反射圖案，所述開口在所述反射層的正投影位于所述反射圖案的范圍內(nèi)。

進(jìn)一步地，所述發(fā)光元件包括紅色發(fā)光層、綠色發(fā)光層和藍(lán)色發(fā)光層，所述紅色發(fā)光層到所述反射層之間的距離、所述綠色發(fā)光層到所述反射層之間的距離、所述藍(lán)色發(fā)光層到所述反射層之間的距離依次遞減。

優(yōu)選地，所述紅色發(fā)光層到所述反射層之間的距離為185-415nm；所述綠色發(fā)光層到所述反射層之間的距離為140-390nm；所述藍(lán)色發(fā)光層到所述反射層之間的距離為95-345nm。

優(yōu)選地，所述反射層到所述陽極的距離大致相等。