[實用新型]磁瓦上下料機構

有效

• 申請號: 201621452021.8
• 申請日: 2016-12-27
• 公開（公告）號: CN206661715U
• 公開（公告）日: 2017-11-24
• 發明（設計）人: 薛春花;張春平;趙曉曦;陳志列
• 申請（專利權）人: 研祥智能科技股份有限公司
• 主分類號: B07C5/36
• 分類號: B07C5/36;B07C5/02
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司44224
• 代理人: 余哲瑋

1.一種磁瓦上下料機構，其設置于機架上，其特征在于：包括上料機構及與所述上料機構配合的下料機構，所述上料機構包括分離組件，所述分離組件包括分離驅動件和分離推塊，所述分離驅動件與所述分離推塊連接并設置于所述機架上，所述分離推塊用于在所述分離驅動件的驅動下向靠近傳輸組件的方向移動并將磁瓦推至所述傳輸組件上；所述下料機構包括下料驅動件、良品滑道和不良品滑道，所述良品滑道和所述不良品滑道相互錯開并均與所述傳輸組件連通，所述下料驅動件用于帶動所述磁瓦的良品和/或不良品由對應的所述良品滑道和/或所述不良品滑道輸出。

2.如權利要求1所述的磁瓦上下料機構，其特征在于：所述分離組件包括分離驅動件及與所述分離驅動件連接的分離推塊，所述分離推塊在所述分離驅動件的驅動下向靠近所述傳輸組件的方向移動。

3.如權利要求2所述的磁瓦上下料機構，其特征在于：所述分離推塊面向所述磁瓦的一端形成有與所述磁瓦的形狀相匹配的容置缺口。

4.如權利要求2所述的磁瓦上下料機構，其特征在于：所述上料機構包括支撐架，所述支撐架設置于所述機架上且包括支撐臺面，所述支撐臺面與所述傳輸組件的一側對接，并與所述傳輸組件的傳輸面位于同一平面。

5.如權利要求1所述的磁瓦上下料機構，其特征在于：所述上料機構包括吹干組件，所述吹干組件包括加熱件及風扇，所述加熱件和所述風扇均設置于所述傳輸組件的上方。

6.如權利要求5所述的磁瓦上下料機構，其特征在于：所述吹干組件還包括固定罩，所述固定罩設置于所述機架上且罩設于所述傳輸組件的上方，所述加熱件和所述風扇均固定于所述固定罩上。

7.如權利要求5所述的磁瓦上下料機構，其特征在于：所述加熱件為提供熱氣流的熱風槍，所述風扇為強力風扇。

8.如權利要求1所述的磁瓦上下料機構，其特征在于：所述良品滑道與所述傳輸組件連通，并位于同一條傳輸路徑上，所述不良品滑道連通于所述傳輸組件的一側，所述下料驅動件設置所述傳輸組件與所述不良品滑道相對的另一側。