[實用新型]一種新型的干法刻蝕裝置有效

申請號：	201621444688.3	申請日：	2016-12-27
公開（公告）號：	CN206312872U	公開（公告）日：	2017-07-07
發明（設計）人：	尤春;華衛群;吳洪強	申請（專利權）人：	無錫中微掩模電子有限公司
主分類號：	H01L21/67	分類號：	H01L21/67;H01J37/32
代理公司：	常州佰業騰飛專利代理事務所(普通合伙)32231	代理人：	康瀟
地址：	214135 江***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種新型刻蝕裝置
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【權利要求書】：

1.一種新型的干法刻蝕裝置，包括引風電機(1)、設備倉(4)、刻蝕裝置本體(5)、反應倉(6)、等離子體(13)和旋轉電機(14)，其特征在于：所述設備倉(4)的內部安裝有旋轉電機(14)，旋轉電機(14)通過旋轉軸(9)與晶元載體(10)嚙合連接，所述晶元載體(10)的內部安裝有電熱圈(8)，所述晶元載體(10)位于反應倉(6)的內部，所述反應倉(6)的頂部安裝有上電極板(12)，所述上電極板(12)的底部安裝有等離子體(13)，所述反應倉(6)通過出風口(15)與第一出風管(3)和第二出風管(16)連接，所述第一出風管(3)和第二出風管(16)通過引風電機(1)與出風管(2)連接。

2.根據權利要求1所述的一種新型的干法刻蝕裝置，其特征在于：所述刻蝕裝置本體(5)通過下電極板(11)分設成反應倉(6)和設備倉(4)。

3.根據權利要求1所述的一種新型的干法刻蝕裝置，其特征在于：所述旋轉軸(9)貫穿下電極板(11)與晶元載體(10)嚙合連接。

4.根據權利要求1所述的一種新型的干法刻蝕裝置，其特征在于：所述引風電機(1)位于刻蝕裝置本體(5)的底部。

5.根據權利要求1所述的一種新型的干法刻蝕裝置，其特征在于：所述晶元載體(10)的上表面開設有安放槽(7)。

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