[實用新型]立式真空濺射鍍膜機(jī)膜厚調(diào)節(jié)裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201621403684.0
• 申請日: 2016-12-21
• 公開（公告）號: CN206502853U
• 公開（公告）日: 2017-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李德勇
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州曼柯精密部件有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/54
• 代理公司: 江陰義海知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)32247
• 代理人: 陳建中

1.立式真空濺射鍍膜機(jī)膜厚調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，包括立式爐體、若干設(shè)置于所述立式爐體內(nèi)的靶材、垂直設(shè)置于所述立式爐體內(nèi)的中空充氣架，所述中空充氣架的中心線與所述立式爐體的中心線相重合，所述中空充氣架的側(cè)壁上開設(shè)有若干正對所述靶材的出氣孔，所述中空充氣架的兩端閉合，所述中空充氣架通過送氣管道與氣體控制柜上的氣體調(diào)節(jié)閥相連通。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式真空濺射鍍膜機(jī)膜厚調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述送氣管道上設(shè)置有用于監(jiān)測氣體充入多少的流量控制閥。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式真空濺射鍍膜機(jī)膜厚調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述中空充氣架的橫截面呈矩形。