[實用新型]缺陷檢查用拍攝裝置、缺陷檢查系統以及膜制造裝置有效
| 申請號: | 201621361034.4 | 申請日: | 2016-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN206583816U | 公開(公告)日: | 2017-10-24 |
| 發明(設計)人: | 尾崎麻耶 | 申請(專利權)人: | 住友化學株式會社 |
| 主分類號: | G01N21/896 | 分類號: | G01N21/896;G01N21/89 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司11021 | 代理人: | 蔣亭 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 缺陷 檢查 拍攝 裝置 系統 以及 制造 | ||
1.一種缺陷檢查用拍攝裝置,用于進行具有偏振特性的膜的缺陷檢查,其特征在于,
所述缺陷檢查用拍攝裝置具備:
光照射機構,其向所述膜的拍攝區域照射光;
拍攝機構,其將所述膜的所述拍攝區域拍攝為二維圖像;
第一偏振濾波器,其以與所述膜形成正交偏振狀態或者第一非正交偏振狀態的方式,配置在所述光照射機構與所述膜的所述拍攝區域之間、或者所述膜的所述拍攝區域與所述拍攝機構之間;以及
搬運機構,其相對于所述光照射機構、所述拍攝機構以及所述第一偏振濾波器沿搬運方向相對地搬運所述膜,
所述拍攝區域包括在所述搬運方向上被分割出的第一拍攝區域以及第二拍攝區域,
所述第一偏振濾波器配置在所述光照射機構與所述第一拍攝區域之間、或者所述第一拍攝區域與所述拍攝機構之間。
2.根據權利要求1所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,
所述第一偏振濾波器與所述膜形成正交偏振狀態。
3.根據權利要求2所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,
所述缺陷檢查用拍攝裝置還具備亮度調節機構,該亮度調節機構調節照射至所述第一拍攝區域以及所述第二拍攝區域中的至少一方的光、或者透過所述第一拍攝區域以及所述第二拍攝區域中的至少一方或被所述第一拍攝區域以及所述第二拍攝區域中的至少一方反射的光的亮度值。
4.根據權利要求3所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,
所述亮度調節機構調節照射至所述第二拍攝區域的光、或者透過所述第二拍攝區域或被所述第二拍攝區域反射的光的亮度值。
5.根據權利要求4所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,
所述亮度調節機構是配置在所述光照射機構與所述第二拍攝區域之間、或者所述第二拍攝區域與所述拍攝機構之間的衰減濾波器。
6.根據權利要求3或4所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,
所述亮度調節機構配置于所述光照射機構,單獨調節向所述第一拍攝區域照射的光的亮度值和向所述第二拍攝區域照射的光的亮度值。
7.根據權利要求1所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,
所述第一偏振濾波器配置在所述光照射機構與所述第一拍攝區域之間。
8.根據權利要求1所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,
所述缺陷檢查用拍攝裝置還具備亮度調節機構,該亮度調節機構調節照射至所述第一拍攝區域以及所述第二拍攝區域中的至少一方的光、或者透過所述第一拍攝區域以及所述第二拍攝區域中的至少一方或被所述第一拍攝區域以及所述第二拍攝區域中的至少一方反射的光的亮度值。
9.根據權利要求8所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,
所述第一偏振濾波器與所述膜的所述第一拍攝區域形成正交偏振狀態,
所述亮度調節機構包括第一亮度調節用偏振濾波器,該第一亮度調節用偏振濾波器以與所述膜的所述第二拍攝區域形成第一非正交偏振狀態的方式,配置在所述光照射機構與所述第二拍攝區域之間、或者所述第二拍攝區域與所述拍攝機構之間。
10.根據權利要求8所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,
所述第一偏振濾波器與所述膜的所述第一拍攝區域形成第一非正交偏振狀態,
所述亮度調節機構是配置在所述光照射機構與所述第二拍攝區域之間、或者所述第二拍攝區域與所述拍攝機構之間的衰減濾波器。
11.根據權利要求8所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,
所述第一偏振濾波器與所述膜的所述第一拍攝區域形成第一非正交偏振狀態,
所述亮度調節機構配置于所述光照射機構,單獨調節向所述第一拍攝區域照射的光的亮度值和向所述第二拍攝區域照射的光的亮度值。
12.根據權利要求9所述的缺陷檢查用拍攝裝置,其特征在于,
所述拍攝區域包括在所述搬運方向上被分割出的第三拍攝區域,
所述亮度調節機構包括第二亮度調節用偏振濾波器且調節照射至所述第三拍攝區域的光的亮度值,該第二亮度調節用偏振濾波器以與所述膜的所述第三拍攝區域形成第二非正交偏振狀態的方式,配置在所述光照射機構與所述第三拍攝區域之間、或者所述第三拍攝區域與所述拍攝機構之間。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于住友化學株式會社,未經住友化學株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201621361034.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





