[實用新型]一種真空氣氛處理裝置及樣品觀測系統

有效

• 申請號: 201621309552.1
• 申請日: 2016-12-01
• 公開（公告）號: CN206332001U
• 公開（公告）日: 2017-07-14
• 發明（設計）人: 何偉;李帥;王鵬
• 申請（專利權）人: 聚束科技（北京）有限公司
• 主分類號: H01J37/18
• 分類號: H01J37/18;H01J37/26;H01J37/28
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司11270
• 代理人: 張穎玲,李梅香

1.一種真空氣氛處理裝置，所述裝置的頂部與外部的粒子束產生裝置連接，其特征在于，所述裝置包括：底部與外部的待測樣品或承載所述待測樣品的平臺接觸的吸盤、與外部的供氣系統連接的第一氣體控制器、與外部的抽氣系統連接的第二氣體控制器；其中，

所述裝置的頂部設置有窗口，所述窗口用于使外部的粒子束進入所述裝置；

所述第一氣體控制器，用于連接所述供氣系統和所述吸盤；

所述第二氣體控制器，用于連接所述抽氣系統和所述吸盤。

2.根據權利要求1所述裝置，其特征在于，所述吸盤包括：金屬波紋管、至少包括一圈彈簧的彈簧結構和密封結構；其中，

所述彈簧結構位于所述金屬波紋管的波紋內部，用于支撐所述金屬波紋管；

所述金屬波紋管的底部與所述密封結構連接；

所述密封結構與所述待測樣品或承載所述待測樣品的平臺接觸。

3.根據權利要求1或2所述裝置，其特征在于，所述供氣系統向所述裝置供入的氣體為純凈氣體或混合氣體。

4.一種樣品觀測系統，其特征在于，所述系統包括：帶電粒子束產生裝置、真空氣氛處理裝置和樣品；其中，

所述帶電粒子束產生裝置的鏡筒底部與所述真空氣氛處理裝置的頂部固定連接；

所述樣品或承載所述樣品的平臺與所述真空氣氛處理裝置的底部接觸；

所述真空氣氛處理裝置包括：與所述樣品或承載所述樣品的平臺接觸的吸盤、與外部的供氣系統連接的第一氣體控制器以及與外部的抽氣系統連接的第二氣體控制器；

所述真空氣氛處理裝置的頂部設置有窗口，所述窗口位于所述帶電粒子束產生裝置底部的第一真空窗下方，用于使所述帶電粒子束產生裝置產生的粒子束通過所述第一真空窗后對所述真空氣氛處理裝置內的樣品進行觀測；

所述第一氣體控制器，用于連接所述供氣系統和所述吸盤，對所述真空氣氛處理裝置供氣；

所述第二氣體控制器，用于連接所述抽氣系統和所述吸盤，對所述真空氣氛處理裝置抽氣。

5.根據權利要求4所述系統，其特征在于，所述吸盤包括：金屬波紋管、至少包括一圈彈簧的彈簧結構和密封結構；其中，

所述彈簧結構位于所述金屬波紋管的波紋內部，用于支撐所述金屬波紋管；

所述金屬波紋管的底部與所述密封結構連接；

所述密封結構與所述樣品或承載所述樣品的平臺接觸。

6.根據權利要求4或5所述系統，其特征在于，所述供氣系統向所述裝置供入的氣體為純凈氣體或混合氣體。

7.根據權利要求4或5所述系統，其特征在于，所述系統還包括至少一個探測器，所述探測器水平或傾斜位于所述真空氣氛處理裝置的內部頂端，用于對所述粒子束作用于樣品后產生的信號進行探測。

8.根據權利要求5所述系統，其特征在于，所述系統還包括安裝于所述鏡筒外壁上的磁屏蔽裝置，所述磁屏蔽裝置的下端靠近所述密封結構，用于對所述真空氣氛處理裝置進行磁隔離。

9.根據權利要求4或5所述系統，其特征在于，所述平臺上安裝有多自由度的位移臺，所述位移臺用于對所述樣品進行多自由度的調節。

10.根據權利要求4或5所述系統，其特征在于，所述平臺上安裝有加熱模塊和/或制冷模塊，用于調整所述樣品所處的環境溫度。

11.根據權利要求4或5所述系統，其特征在于，所述平臺上安裝有掃描透射裝置，所述掃描透射裝置內的透射粒子探測腔的上表面設置有第二真空窗，所述透射粒子探測腔內安裝有探測器，用于對作用于樣品后的粒子束進行探測。

12.根據權利要求4或5所述系統，其特征在于，所述系統還包括位于所述鏡筒的外側的激光雷達模塊，所述激光雷達模塊，用于在所述帶電粒子束產生裝置移動時，確定所述吸盤的吸取位置。