[實(shí)用新型]一種黑色陶瓷有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201621308770.3 | 申請(qǐng)日： | 2016-12-01 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN206970483U | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-02-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 馬艷紅 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 潮州三環(huán)（集團(tuán)）股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C04B41/89 | 分類號(hào)： | C04B41/89 |
| 代理公司： | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司44202 | 代理人： | 宋靜娜,郝傳鑫 |
| 地址： | 515646 *** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 黑色 陶瓷 | ||
1.一種黑色陶瓷，其特征在于，所述黑色陶瓷包括黑色陶瓷基底層和設(shè)置在所述黑色陶瓷基底層上的減反射膜；
所述減反射膜包括交替疊層的低折射率膜層和高折射率膜層；
所述減反射膜還包括中折射率膜層，所述中折射率膜層位于所述低折射率膜層和高折射率膜層之間；
所述低折射率膜層的厚度為1～100nm，所述高折射率膜層的厚度為1～100nm，所述減反射膜的厚度為5～500nm；
所述中折射率膜層的厚度為1～100nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑色陶瓷，其特征在于，所述低折射率膜層為由二氧化硅和氟化鎂中的至少一種組成的膜層，所述高折射率膜層為由五氧化二鉭，五氧化二鈦、三氧化二鈦、二氧化鈦、一氧化鈦，氧化鈮，硫化鋅，氧化鋯，氮化硅中的至少一種組成的膜層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑色陶瓷，其特征在于，所述中折射率膜層為氧化鋁和一氧化硅中的至少一種組成的膜層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑色陶瓷，其特征在于，在所述減反射膜上設(shè)置有AF膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的黑色陶瓷，其特征在于，所述AF膜的厚度為1～500nm。
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