[實用新型]利用二氧化碳的清洗裝置及利用此的干濕式復合清洗系統

有效

• 申請號: 201621308158.6
• 申請日: 2016-11-30
• 公開（公告）號: CN206343436U
• 公開（公告）日: 2017-07-21
• 發明（設計）人: 崔宇喆;李氣雨
• 申請（專利權）人: K.C.科技股份有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;B08B3/08;B08B3/12;G03F1/82
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司11286
• 代理人: 孫昌浩,李盛泉

技術領域

本實用新型涉及一種利用二氧化碳的清洗裝置及利用該裝置的干濕式復合清洗系統，尤其涉及一種能夠防止清洗對象物的損傷并最小化清洗液的使用量，且能夠提高清洗效率的利用二氧化碳的清洗裝置及利用該裝置的干濕式復合清洗系統。

背景技術

顯示裝置中，OLED等有機發光顯示裝置(有機發光二極管)具有視角寬、對比度優秀以及響應速度快等優點，因此作為次時代的現實裝置而備受矚目。

普通的有機發光二極管為了高效發光而在各個發光層之間追加插入電子注入層、電子傳輸層、空穴傳輸層及空穴注入層等中間層。其中，發光層及中間層等有機薄膜的微細圖案可以通過沉積工藝而形成。為了通過沉積工藝而制造有機發光二極管，需要在將要形成有機薄膜等的基板面上，緊貼具有與將要形成的薄膜等的圖案相同的圖案的掩膜，并沉積薄膜等材料而形成預定圖案的薄膜。

有機物沉積裝置在真空腔室的下部配備有紅色(R)、綠色(G)、藍色(B)的有機發光物質、用于存儲它的沉積物質容器，以及具有加熱裝置等的沉積源，并在上方布置有作為沉積對象的基板。

在所述基板的下部配備有具有沉積圖案的金屬材質的掩膜(mask)。

在沉積源存儲有紅色、綠色和藍色的發光有機物質。沉積源在沉積時被加熱到預定的溫度而使有機物質蒸發。掩膜在基板上起到使有機物質以預定的圖案沉積的作用。為此，在掩膜以預定的圖案形成有多個孔。上述的孔使從沉積源以蒸汽狀態供應的有機物質選擇性地通過，從而沉積在基板上。

最近，被提出了一種為了實現高分辨率而使用穿有密集的孔的金屬掩膜而沉積有機物的方法，即精細金屬掩膜(FMM；Fine Metal Mask)沉積工藝。

在所述沉積工序中，有機物質通過掩膜的孔而被沉積在基板上，并且在掩膜的表面也沉積有一部分。在掩膜表面殘留的有機物會給產品的產率及可靠性帶來壞影響，因此在結束沉積工藝之后，為了去除所述有機物而執行清洗掩膜的工序。

作為上述清洗掩膜的方法，根據處理方式而已知有干式(dry)清洗方式和濕式(濕式)清洗方式以及將兩種方法混合而清洗的方式。

圖1是示出混合現有的干式清洗和濕式清洗的清洗方式的附圖，其公開于韓國授權專利第10-1534832號中。

圖1的清洗裝置包括：干式型清洗裝置20，使用等離子體、極紫外線(EUV/DUV)、紫外線(UV)中的某一個而進行清洗；沉積槽(bath)，可裝有清洗藥液而能夠使OLED沉積用掩膜30被沉浸；以及干燥裝置50，用于干燥從沉積槽40中移送的掩膜。

在所述沉積浴40中收容有清洗藥液，并將掩膜30在清洗藥液中沉浸一段時間而進行清洗。所述掩膜30的面積較大，因此為了在清洗時移動掩膜30，或者沉浸在所述沉積浴40中而需要使用掩膜夾具。

由于這種濕式清洗方式中需要用到化學物質，因此可能引起環境污染并且可能導致車間的安全事故，因此在各個國家中被列為限制使用的藥品，而且使用量逐漸減少。并且，OLED的圖案越來越微細化，因此如果圖案進一步微細化，則可能因為清洗藥液的表面張力而無法對圖案的內部進行清洗。

利用等離子體或紫外線的清洗方式是一種通過使從等離子體或紫外線發生裝置發生的等離子體或紫外線接觸到掩膜的表面而分解有機物質并去除的方式。

在所述精細金屬掩膜(FMM)工藝中，為了實現高分辨率而使形成于掩膜的孔以非常小的大小形成，如果使用等離子體或紫外線清洗上述精細金屬掩膜(FMM)，則可能因為高溫而導致掩膜表面的熱損傷及氧化，并存在殘渣殘留的問題。

另外，利用二氧化碳的干式清洗裝置采用如下的清洗方式：通過一個噴嘴而使被供應的液態二氧化碳隔熱膨脹，從而相變成固態二氧化碳即干冰，并將該固態二氧化碳噴射到清洗對象物的表面而借助于該固態二氧化碳與異物的碰撞、以及固態二氧化碳相變成氣體時產生的體積的增加而清洗異物。

如果使用上述干式清洗裝置而清洗掩膜，則從噴嘴噴射的二氧化碳相變成固態而與掩膜的表面發生碰撞，因此由于噴射的打擊力而產生在掩膜的表面留下痕跡的問題。

因此，需要使噴射到掩膜的二氧化碳的固體粒子非常微小，可以通過在噴嘴形成多個微細孔，并通過該微細孔而使二氧化碳微粒化，然后進行噴射。但是如果無法減少微孔之間的節距(pitch)，則可能在均勻度方面發生問題，并存在難以加工微孔的問題。

披露上述清洗裝置的現有技術有韓國授權專利第10-1306082號的“有機及無機性異物清洗裝置”、韓國公開專利第10-2014-0130963號“有機物清洗裝置及清洗方法”。

實用新型內容