[實用新型]線圈盤及電磁烹飪器具

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201621298809.8
• 申請日: 2016-11-29
• 公開（公告）號: CN206251373U
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發(fā)明（設計）人: 蒙劍友;任玉潔;范吉昌;鄒偉;羅紹生;江太陽
• 申請（專利權）人: 佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司
• 主分類號: H05B6/44
• 分類號: H05B6/44;H05B6/12;A47J36/24
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所44287
• 代理人: 胡海國

技術領域

本實用新型涉及烹飪器具技術領域，特別涉及一種線圈盤及電磁烹飪器具。

背景技術

電磁式烹飪器具，諸如電磁爐、電飯煲和壓力鍋等，通常是依靠交流電通過線圈產生交變磁場，從而使鍋底產生渦流而發(fā)熱，達到烹飪食物的目的。

參照圖1，目前，電磁式烹飪器具內部的線圈盤包括繞組線圈11’、線圈盤座10’和磁條等。繞組線圈都是呈整個圓環(huán)形纏繞于線圈盤座上，然后對器具進行加熱。

在加熱過程中，根據線圈盤所產生的磁感線的分布情況，線圈盤產生的磁感線由中部逐漸向外減弱，如此，對鍋底而言，加熱不均勻。

實用新型內容

本實用新型的主要目的是提供一種線圈盤，旨在解決現有電磁烹飪器具加熱不均勻的問題。

為實現上述目的，本實用新型提出的一種線圈盤，用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座和安裝于所述線圈盤座上的繞組線圈，所述線圈盤座具有一平底，所述繞組線圈安裝于所述平底上設置的繞線槽內；所述繞組線圈包括一第一繞組和設置于所述第一繞組周邊的多個第二繞組，多個所述第二繞組在所述第一繞組周向上間隔排布；且所述第二繞組的邊緣與所述第一繞組的邊緣之間的間距小于50mm。

優(yōu)選的，所述第一繞組的邊緣與所述第二繞組的邊緣之間的間距大于等于20mm且小于等于30mm。

優(yōu)選的，所述第一繞組和所述第二繞組至少其中之一呈圓環(huán)形設置。

優(yōu)選的，所述第一繞組呈圓環(huán)形設置，所述第一繞組的直徑大于等于80mm且小于等于150mm。

優(yōu)選的，所述第一繞組的直徑大于等于100mm且小于等于120mm。

優(yōu)選的，所述第二繞組呈圓環(huán)形設置，且所述第二繞組的直徑在50mm至120mm內。

優(yōu)選的，所述第二繞組的直徑在80mm至100mm內。

優(yōu)選的，所述第一繞組與所述第二繞組均呈圓環(huán)形設置，所述第一繞組的直徑大于所述第二繞組的直徑。

本實用新型還提供一種電磁烹飪器具，包括線圈盤，所述線圈盤包括線圈盤座和安裝于所述線圈盤座上的繞組線圈，所述線圈盤座具有一平底，所述繞組線圈安裝于所述平底上設置的繞線槽內；所述繞組線圈包括一第一繞組和設置于所述第一繞組周邊的多個第二繞組，多個所述第二繞組在所述第一繞組周向上間隔排布；且所述第二繞組與所述第一繞組之間的間距小于50mm。

優(yōu)選的，所述電磁烹飪器具為電磁爐、壓力鍋或電飯煲。

本實用新型的技術方案通過在線圈盤座的平底上設置第一繞組和第二繞組，并且第二繞組在所述第一繞組周向上間隔排布，可實現多區(qū)域加熱，另外，將第二繞組的邊緣與所述第一繞組的邊緣之間的間距設置為小于50mm，可避免第一繞組與第二繞組之間形成電磁空白區(qū)域，從而可提高電磁烹飪器具加熱的均勻性。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖示出的結構獲得其他的附圖。

圖1為現有技術中繞組線圈盤繞于線圈盤線圈盤座上的結構示意圖；

圖2為本實用新型一實施例的結構示意圖；

圖3為具有兩個第二繞組的繞組線圈的一結構示意圖；

圖4為具有兩個第二繞組的繞組線圈的另一結構示意圖；

圖5為具有三個第二繞組的繞組線圈的一結構示意圖；

圖6為具有四個第二繞組的繞組線圈的一結構示意圖；

圖7為本實用新型另一實施例中繞組線圈的結構示意圖；

圖8為本實用新型中線圈盤座的一結構示意圖。

附圖標號說明：