[實用新型]一種用于鎳始極片整體下槽的隔膜架有效
| 申請號： | 201621292893.2 | 申請日： | 2016-11-29 |
| 公開（公告）號： | CN206289317U | 公開（公告）日： | 2017-06-30 |
| 發明（設計）人： | 劉軍;劉曉峰;張永萍;柴國梁;李改變;朱良琴 | 申請（專利權）人： | 金川集團股份有限公司 |
| 主分類號： | C25C1/08 | 分類號： | C25C1/08;C25C7/04 |
| 代理公司： | 甘肅省知識產權事務中心62100 | 代理人： | 李琪 |
| 地址： | 737103*** | 國省代碼： | 甘肅;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 鎳始極片 整體 隔膜 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于鎳始極片整體下槽的隔膜架，其特征在于：包括外框架(1)和內框架(2)，所述外框架(1)和內框架(2)為矩形框架結構，內框架(2)頂部開口且其內具有可容納鎳始極片的第一腔室(3)，外框架(1)頂部開口且其內具有可容納內框架的第二腔室(4)，所述內框架(2)設置于第二腔室(4)內。
2.如權利要求1所述一種用于鎳始極片整體下槽的隔膜架，其特征在于：所述外框架(1)和內框架(2)的架體由柵格(5)組成。
3.如權利要求1所述一種用于鎳始極片整體下槽的隔膜架，其特征在于：所述內框架(2)頂部設置有限位橫桿(6)。
4.如權利要求1所述一種用于鎳始極片整體下槽的隔膜架，其特征在于：所述外框架(1)底部設置有支撐腿(7)。
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