[實用新型]測量裝置有效
| 申請號: | 201621284015.6 | 申請日: | 2016-11-28 |
| 公開(公告)號: | CN206479112U | 公開(公告)日: | 2017-09-08 |
| 發明(設計)人: | 吳英;鄭博文;趙魯春;樂光;張偉偉 | 申請(專利權)人: | 中國商用飛機有限責任公司;中國商用飛機有限責任公司上海飛機設計研究院 |
| 主分類號: | G01B5/00 | 分類號: | G01B5/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司31100 | 代理人: | 江漪 |
| 地址: | 201210 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測量 裝置 | ||
1.一種測量裝置,所述測量裝置包括至少一個測微片,其特征在于,還包括:
頂部構件,所述頂部構件直線狀地延伸;
支承構件,所述支承構件與所述頂部構件連接,以將所述頂部構件支承于測量面上;
其中,所述測微片在其內包含開孔,所述頂部構件穿過所述開孔,以使得所述測微片能套裝到所述頂部構件上,且所述測微片能相對于所述頂部構件擺動到測量位置。
2.如權利要求1所述的測量裝置,其特征在于,還包括底部構件,所述頂部構件直線狀地延伸,所述底部構件與所述頂部構件平行、但在垂直方向上不對準,并且比所述頂部構件更接近于所述測量面。
3.如權利要求1所述的測量裝置,其特征在于,所述頂部構件包含刻度。
4.如權利要求2所述的測量裝置,其特征在于,所述底部構件包含刻度。
5.如權利要求4所述的測量裝置,其特征在于,所述測微片能相對于所述頂部構件擺動到與所述測量位置不同的校正位置,在所述校正位置中,所述測微片擱置于所述底部構件上。
6.如權利要求2所述的測量裝置,其特征在于,所述支承構件包括連接構件,所述連接構件設置成連接所述頂部構件與所述底部構件。
7.如權利要求5所述的測量裝置,其特征在于,所述支承構件包括連接構件,所述連接構件設置成連接所述頂部構件與所述底部構件,所述底部構件包括第一底部構件和第二底部構件,所述連接構件將所述第一底部構件、所述第二底部構件以及所述頂部構件連接成三棱柱式框架,在所述校正位置中,所述測微片擱置于所述第一底部構件和所述第二底部構件中的一者之上。
8.如權利要求7所述的測量裝置,其特征在于,所述連接構件包括分別在所述第一底部構件、所述第二底部構件以及所述頂部構件的縱向兩端處使三者連接起來的橫梁。
9.如權利要求8所述的測量裝置,其特征在于,在所述三棱柱式框架中,所述第一底部構件和所述第二底部構件關于所述頂部構件為對稱布置,所述第一底部構件、所述第二底部構件以及所述頂部構件的長度相等。
10.如權利要求1-9中任一項所述的測量裝置,其特征在于,在所述測量位置中,所述測微片定向成與所述測量面垂直。
11.如權利要求1-9中任一項所述的測量裝置,其特征在于,所述開孔沿所述測微片的縱向延伸,并且構造成使得所述頂部構件在所述測微片的所述開孔內的縱向位置能改變。
12.如權利要求2所述的測量裝置,其特征在于,所述測微片的長度大于所述頂部構件與所述底部構件之間的直線距離。
13.如權利要求1-9中任一項所述的測量裝置,其特征在于,所述頂部構件的橫截面為圓形。
14.如權利要求1-9中任一項所述的測量裝置,其特征在于,所述測微片能沿著所述頂部構件的縱向自由地移動。
15.如權利要求1-9中任一項所述的測量裝置,其特征在于,所述測量裝置還包括用于對測量空間進行照明的可開關的光源。
16.如權利要求4-9中任一項所述的測量裝置,其特征在于,在所述底部構件上設有吸盤,以將所述測量裝置固定在所述測量面上。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國商用飛機有限責任公司;中國商用飛機有限責任公司上海飛機設計研究院,未經中國商用飛機有限責任公司;中國商用飛機有限責任公司上海飛機設計研究院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201621284015.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種專用量規及零件測微工具
- 下一篇:一種石墨烯毛針織面料的生產方法





