[實用新型]消偏振分光片有效

申請號：	201621269148.6	申請日：	2016-11-24
公開（公告）號：	CN206270529U	公開（公告）日：	2017-06-20
發明（設計）人：	朱元強	申請（專利權）人：	福建福特科光電股份有限公司
主分類號：	G02B5/30	分類號：	G02B5/30
代理公司：	福州市眾韜專利代理事務所(普通合伙)35220	代理人：	王旭,王良財
地址：	350100 福建省福州***	國省代碼：	福建;35
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摘要：
搜索關鍵詞：	偏振分光
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【權利要求書】：

1.一種消偏振分光片，其特征在于：該分光片由光學玻璃基底以及沉積在光學玻璃基底上的分光膜組成，所述分光膜由14層膜層組成，該14層膜層由高折射率介質材料TiO₂膜層和低折射率介質材料SiO₂膜層多次交替堆疊組成，該14層膜層從內至外依次為：第1層，TiO₂膜層，厚度為49.3-50.3nm；第2層，SiO₂膜層，厚度為84.2-85.9nm；第3層，TiO₂膜層，厚度為39.5-40.3nm；第4層，SiO₂膜層，厚度為67.0-68.3nm；第5層，TiO₂膜層，厚度為36.2-37.0nm；第6層，SiO₂膜層，厚度為77.3-78.9nm；第7層，TiO₂膜層，厚度為49.0-50.0nm；第8層，SiO₂膜層，厚度為101.1-103.2nm；第9層，TiO₂膜層，厚度為58.4-59.5nm；第10層，SiO₂膜層，厚度為114.4-116.7nm，第11層，TiO₂膜層，厚度為85.8-87.5nm；第12層，SiO₂膜層，厚度為196.8-200.8nm；第13層，TiO₂膜層，厚度為79.5-81.1nm；第14層，SiO₂膜層，厚度為154.6-157.7nm。

2.根據權利要求1所述的消偏振分光片，其特征在于：所述14層膜層的厚度依次為：第1層，TiO₂膜層，厚度為49.8nm；第2層，SiO₂膜層，厚度為85.1nm；第3層，TiO₂膜層，厚度為39.9nm；第4層，SiO₂膜層，厚度為67.7nm；第5層，TiO₂膜層，厚度為36.6nm；第6層，SiO₂膜層，厚度為78.1nm；第7層，TiO₂膜層，厚度為49.5nm；第8層，SiO₂膜層，厚度為102.1nm；第9層，TiO₂膜層，厚度為59.0nm；第10層，SiO₂膜層，厚度為115.6nm，第11層，TiO₂膜層，厚度為86.6nm；第12層，SiO₂膜層，厚度為198.8nm；第13層，TiO₂膜層，厚度為80.3nm；第14層，SiO₂膜層，厚度為156.1nm。