[實(shí)用新型]化學(xué)機(jī)械研磨系統(tǒng)的基板裝載裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201621252021.3
• 申請(qǐng)日: 2016-11-16
• 公開（公告）號(hào): CN206527634U
• 公開（公告）日: 2017-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 權(quán)赫泰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: K.C.科技股份有限公司
• 主分類號(hào): B24B37/005
• 分類號(hào): B24B37/005;B24B37/11;B24B37/34
• 代理公司: 北京冠和權(quán)律師事務(wù)所11399
• 代理人: 朱健

1.一種基板裝載裝置，其為用于將基板裝載于研磨頭的化學(xué)機(jī)械研磨系統(tǒng)的，其特征在于，包括：

放置部，其放置基板；

基板浮起部，其使所述基板從所述放置部浮起；

所述基板在從所述放置部浮起的狀態(tài)下裝載于所述研磨頭。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板裝載裝置，其特征在于，

所述基板浮起部安裝于所述放置部，并朝所述基板的底面噴射流體并使所述基板浮起。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板裝載裝置，其特征在于，

所述基板浮起部朝所述基板的底面噴射互不相同的異種流體。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板裝載裝置，其特征在于，所述基板浮起部包括：

第一流體噴射部，其噴射第一流體；

第二流體噴射部，其噴射與所述第一流體不同的第二流體；

所述第一流體及所述第二流體以混合或分離的狀態(tài)噴射于所述基板的表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板裝載裝置，其特征在于，

所述第一流體為氣態(tài)流體及液態(tài)流體之中任何一個(gè)，所述第二流體為氣態(tài)流體及液態(tài)流體之中任何一個(gè)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板裝載裝置，其特征在于，

所述第一流體為氮，所述第二流體為純水。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板裝載裝置，其特征在于，

如果所述研磨頭按照預(yù)先設(shè)定的間隔距離鄰近地配置于所述基板，則浮起的所述基板以真空方式附著于所述研磨頭。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板裝載裝置，其特征在于，

所述基板浮起部包括多個(gè)噴射噴嘴。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板裝載裝置，其特征在于，

所述噴射噴嘴沿著所述放置部的圓周方向或半徑方向有間距地進(jìn)行配置。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板裝載裝置，其特征在于，

所述基板放置部包括放置所述基板并朝上下方向進(jìn)行升降的放置板。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板裝載裝置，其特征在于，所述放置部包括：

放置板，其與所基板的底面有間距地進(jìn)行配置；

邊緣位置放置部，其形成于所述放置板的上面，并且支撐所述基板的底面邊緣位置，

所述基板浮起部安裝于所述放置板的上面。