[實用新型]一種磁控濺射裝置及磁控濺射系統

有效

• 申請號: 201621197024.1
• 申請日: 2016-11-04
• 公開（公告）號: CN206273836U
• 公開（公告）日: 2017-06-23
• 發明（設計）人: 徐興;李澤宇;周媛;魏志英
• 申請（專利權）人: 廣漢川冶新材料有限責任公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙)11371
• 代理人: 李佳

1.一種磁控濺射裝置，其特征在于，包括殼體，所述殼體內設置有磁靶、靶材組件、用于安裝基材的爐盤和用于調整所述靶材組件與所述基材之間的磁場強度的緩沖組件，所述磁靶固定于所述殼體的內壁并用于提供磁場，所述爐盤設置于所述殼體的內壁并用于安裝基材，所述靶材組件設置于所述磁靶并與所述爐盤相對設置，所述緩沖組件設置于所述靶材組件和所述磁靶之間，所述緩沖組件包括驅動裝置和至少兩個依次疊放的調整板，每個所述調整板通過所述驅動裝置移入或移出工作區域。

2.根據權利要求1所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述殼體的內壁開設有用于容納所述調整板的容置腔室，所述容置腔室遠離所述殼體的一側設置有用于打開或關閉所述容置腔室的活動板。

3.根據權利要求1所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述驅動裝置包括電機，所述電機與所述調整板之間通過連桿連接。

4.根據權利要求1所述的磁控濺射裝置，其特征在于，每個所述調整板的厚度2-4cm，相鄰兩個所述調整板的厚度相同或不同。

5.根據權利要求3所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述調整板由多個調整塊拼接組成，每個所述調整塊通過所述連桿與驅動裝置連接。

6.根據權利要求5所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述調整塊在水平面上的投影為等腰三角形，相鄰兩個所述調整塊的移動方向相互垂直。

7.根據權利要求1所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述靶材組件包括固定連接的金屬靶材和背板，所述背板可拆卸連接于所述磁靶。

8.根據權利要求7所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述金屬靶材包括一體成型的基底和凸臺，所述基底具有上表面和下表面，所述背板設有凹槽，所述凹槽由底面和周面圍合而成，所述基底的所述下表面焊接于所述凹槽的所述底面，所述基底的所述上表面設有鋸齒狀凸起，所述上表面與所述背板靠近所述凸臺的一面位于同一平面。

9.根據權利要求8所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述背板遠離所述凸臺的一側開設有多個散熱通道，多個所述散熱通道間隔均勻分布。

10.一種磁控濺射系統，其特征在于，包括權利要求1-9中任一項所述的磁控濺射裝置，以及與所述磁控濺射裝置相匹配的控制系統。