[實(shí)用新型]一種用于斷路器的絕緣殼體有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201621193329.5 | 申請(qǐng)日: | 2016-10-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN206148352U | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-05-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 諶章樓;雍先康;李齊偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江人民電器有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01H33/662 | 分類(lèi)號(hào): | H01H33/662 |
| 代理公司: | 北京三聚陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11250 | 代理人: | 李敏 |
| 地址: | 325604 浙江*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 斷路器 絕緣 殼體 | ||
1.一種用于斷路器的絕緣殼體,所述斷路器內(nèi)設(shè)有真空滅弧室,所述真空滅弧室與互感器相連,其特征在于,所述絕緣殼體用于固定所述真空滅弧室,其包括可拆卸連接的:
基座(1),其內(nèi)部設(shè)有用于固定所述真空滅弧室的容置空間;
蓋板(2),卡接在所述基座(1)上端的開(kāi)口處,其表面設(shè)有散熱孔(3),所述散熱孔(3)與設(shè)置在所述基座(1)底部的氣孔對(duì)應(yīng)設(shè)置形成散熱風(fēng)道;
底板(4),設(shè)置在所述基座(1)側(cè)面的開(kāi)口處;
走線插板(5),設(shè)置在所述基座(1)內(nèi),設(shè)有數(shù)據(jù)線進(jìn)出口(6);所述互感器的數(shù)據(jù)線穿過(guò)所述數(shù)據(jù)線進(jìn)出口(6)與設(shè)置在所述絕緣殼體外部的智能控制器相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的絕緣殼體,其特征在于,所述基座(1)內(nèi)腔設(shè)有沿其縱向平行排列且相互分隔的絕緣腔體(7),每個(gè)所述絕緣腔體(7)內(nèi)容置一個(gè)真空滅弧室。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的絕緣殼體,其特征在于,所述絕緣腔體(7)的軸向方向設(shè)有加固臺(tái)(8),所述加固臺(tái)(8)內(nèi)側(cè)設(shè)有與所述真空滅弧室配合連接的固定弧形面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的絕緣殼體,其特征在于,所述加固臺(tái)(8)設(shè)有沿所述真空滅弧室軸向方向設(shè)置的散熱通道(9),所述散熱通道(9)設(shè)置在所述散熱風(fēng)道的流通方向上。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的絕緣殼體,其特征在于,所述加固臺(tái)(8)包括設(shè)置在所述絕緣腔體(7)內(nèi)的固定支撐件(10)和插接在所述絕緣腔體(7)上與所述固定支撐件(10)對(duì)應(yīng)設(shè)置的活動(dòng)件(11)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的絕緣殼體,其特征在于,所述走線插板(5) 設(shè)置在所述絕緣腔體(7)底部,其兩側(cè)分別設(shè)有與所述基座(1)配合插接的凹槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的絕緣殼體,其特征在于,所述蓋板(2)底面設(shè)有卡接件(12)和卡接滑軌(13);
所述卡接件(12)與設(shè)置在所述基座(1)側(cè)面的支撐件(14)相互配合插接相連,
所述卡接滑軌(13)與設(shè)置在所述基座(1)上端的導(dǎo)向槽相互配合插接相連。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的絕緣殼體,其特征在于,所述基座(1)上端設(shè)有固定驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)軸(15)的固定孔,所述驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)軸(15)通過(guò)傳動(dòng)部件與所述真空滅弧室相連;
所述驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)軸(15)兩端分別與設(shè)置在所述蓋板(2)兩側(cè)的側(cè)板相連,所述側(cè)板限定所述驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)軸(15)的軸向移動(dòng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的絕緣殼體,其特征在于,
所述底板(4)設(shè)有導(dǎo)電線進(jìn)出口(16),供電設(shè)備上的導(dǎo)電母線穿過(guò)所述導(dǎo)電線進(jìn)出口(16)與所述真空滅弧室相連。
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