[實用新型]濕式制程裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201621190332.1
• 申請日: 2016-10-28
• 公開（公告）號: CN206293414U
• 公開（公告）日: 2017-06-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃榮龍;呂峻杰;陳瀅如
• 申請（專利權(quán)）人: 盟立自動化股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 上海翼勝專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)31218
• 代理人: 翟羽

1.一種濕式制程裝置，其特征在于，包括：

一第一容器，包括一第一側(cè)壁的一開口，用于讓一基板沿著所述第一容器的第一軸從所述開口離開或進入所述第一容器；

一主液體移除單元，設(shè)置在所述第一容器內(nèi)部靠近所述第一側(cè)壁與所述開口之區(qū)域，并且所述主液體移除單元包括第一風(fēng)口；

一氣體提供單元，提供一氣體至所述主液體移除單元，以由所述第一風(fēng)口流向所述基板；以及

一副液體移除單元，鄰接于所述主液體移除單元，并且遠離所述開口，所述副液體移除單元與所述主液體移除單元之間形成一第二風(fēng)口，所述副液體移除單元包括連接至所述第一側(cè)壁的一導(dǎo)板；

其中，所述主液體移除單元、所述第一側(cè)壁、所述導(dǎo)板以及所述副液體移除單元之間的物質(zhì)依序經(jīng)過所述導(dǎo)板、所述副液體移除單元往所述第二風(fēng)口移動。

2.如權(quán)利要求1所述之濕式制程裝置，其特征在于，所述第二風(fēng)口的位置較所述第一風(fēng)口遠離所述開口。

3.如權(quán)利要求1所述之濕式制程裝置，其特征在于，所述氣體在所述第二風(fēng)口產(chǎn)生的第一氣體壓力小于所述主液體移除單元、所述第一側(cè)壁、所述導(dǎo)板以及所述副液體移除單元之間的第二氣體壓力。

4.如權(quán)利要求1所述之濕式制程裝置，其特征在于，所述氣體是潔凈干燥氣體。

5.如權(quán)利要求1所述之濕式制程裝置，其特征在于，所述主液體移除單元以及所述副液體移除單元設(shè)置于所述基板的上方。

6.如權(quán)利要求1所述之濕式制程裝置，其特征在于，所述第一風(fēng)口的方向與所述第一軸的第一夾角介于180-270度。

7.如權(quán)利要求6所述之濕式制程裝置，其特征在于，所述第二風(fēng)口的方向與所述第一軸的第二夾角介于180-270度。

8.如權(quán)利要求7所述之濕式制程裝置，其特征在于，所述第二夾角小于所述第一夾角。