[實用新型]一種掩模片及掩模板有效
| 申請號： | 201621188590.6 | 申請日： | 2016-10-28 |
| 公開（公告）號： | CN206512267U | 公開（公告）日： | 2017-09-22 |
| 發明（設計）人： | 孫樸;李旭偉 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京中博世達專利商標代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 掩模片 模板 | ||
1.一種掩模片，包括通過切割線劃分的掩模區以及夾具區，所述掩模區包括有效蒸鍍區，所述夾具區包括多個夾具端部；其特征在于，
所述掩模區還包括：設置在所述有效蒸鍍區靠近所述夾具區一側的多個褶皺釋放區；
所述褶皺釋放區包括間隔排布的多個條形開口，所述條形開口的長度方向與拉伸方向非平行。
2.根據權利要求1所述的掩模片，其特征在于，針對所述掩模片頂角位置處的任一個所述夾具端部，所述掩模區在靠近所述夾具端部設置有一個所述褶皺釋放區。
3.根據權利要求1所述的掩模片，其特征在于，所述有效蒸鍍區中的蒸鍍開口的形狀為孔型。
4.根據權利要求1所述的掩模片，其特征在于，所述褶皺釋放區的外圍輪廓的拐角處為弧形形狀。
5.根據權利要求4所述的掩模片，其特征在于，所述褶皺釋放區的外圍輪廓的長度方向趨于拉伸方向。
6.根據權利要求4所述的掩模片，其特征在于，所述褶皺釋放區的外圍輪廓的形狀為橢圓形。
7.根據權利要求1所述的掩模片，其特征在于，所述褶皺釋放區到所述切割線的距離大于等于0.25L，所述褶皺釋放區到所述有效蒸鍍區的距離大于等于0.25L；
其中，L為所述切割線到所述有效蒸鍍區的距離。
8.根據權利要求1-7任一項所述的掩模片，其特征在于，所述褶皺釋放區與所述夾具端部一一對應。
9.根據權利要求1-7任一項所述的掩模片，其特征在于，所述褶皺釋放區沿拉伸方向的中線與所述夾具端部沿拉伸方向的中心線在一條直線上。
10.一種掩模板，其特征在于，包括框架，以及固定于所述框架上的權利要求1-9任一項所述的掩模片。
11.根據權利要求10所述的掩模板，其特征在于，沿所述掩模片上的切割線，夾具區被切除。
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