[實用新型]用于尿素混合室的空氣簾有效
| 申請號: | 201621143927.1 | 申請日: | 2014-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN206522177U | 公開(公告)日: | 2017-09-26 |
| 發明(設計)人: | 喬治·L·芒蒂恩;史蒂夫·霍爾;喬伊迪普·查克拉巴蒂;約翰·安西斯;約書亞·D·亨利;塞繆爾·約翰遜;安德魯·邁爾 | 申請(專利權)人: | 康明斯排放處理公司 |
| 主分類號: | F01N3/20 | 分類號: | F01N3/20;F01N3/00;B05B7/26;B05B7/32 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司11262 | 代理人: | 湯慧華,鄭霞 |
| 地址: | 美國印*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 尿素 混合 空氣 | ||
本申請是申請日為2014年7月9日,申請號為201490000945.7,實用新型名稱為“用于尿素混合室的空氣簾”的申請的分案申請。
相關申請的交叉引用
本申請要求2013年8月16日提交的美國申請第13/969,039號的權益和優先權,該美國申請據此通過引用以其整體并入。
技術領域
本實用新型大體上涉及但不限于用于尿素混合室的空氣簾。
背景技術
選擇性催化還原(“SCR”)排放后處理系統是用于減少NOx(來自諸如柴油機的內燃發動機的排放物)的重要的技術。SCR系統通常包括尿素溶液的源、用于加壓尿素溶液的泵裝置、用于提供受控制的量或速率的尿素溶液的計量裝置、和將尿素溶液提供至包括SCR催化劑的排放流道的注入器。很多SCR系統還利用加壓氣體來幫助尿素溶液流動到注入器。雖然提供了在NOx(排放物)上的重要減少,但SCR系統遭受許多缺點和問題。在SCR系統中使用尿素溶液可以導致尿素晶體或沉積物在系統的各部件上的生長,這可能使它們的操作中斷。當尿素與熱的注入器噴嘴接觸時,尿素可能經歷閃急沸騰(flash-boiling),這導致壓力波,迫使尿素向后穿過摻混室并進入加壓空氣供應通道中。這可以導致尿素晶體在加壓空氣供應通道內形成,這可能阻塞空氣供應通道,并且可能腐蝕或以其他方式劣化空氣供應通道的壁。另外,如果注入器噴嘴變得永久地或間歇地被堵塞, 則存在注入的尿素可能流入加壓空氣供應通道中的風險,這可能導致在加壓空氣供應通道內的尿素晶體形成。存在對緩和與利用尿素溶液的SCR系統相關聯的這些和其他缺點的進展的長期需求。
實用新型內容
為了促進對本實用新型的原理的理解的目的,現在將參考附圖中圖示的實施方案并且將使用特定的語言來描述它們。將理解的是,由此意圖對本實用新型的范圍沒有限制。如本實用新型所屬領域的技術人員通常將想到的所圖示的實施方案中的任何改變和另外的修改以及本實用新型的原理的任何另外的應用在本文中被預期。
說明性的實施方案包括摻混室,摻混室具有尿素入口、摻混室氣體入口和摻混室出口。尿素源以尿素注入壓力將加壓的尿素溶液提供至尿素入口,并且加壓的氣體源經由通路將加壓氣體傳送至摻混室氣體入口。通路被配置成將沿著其長度傳送的加壓氣體的壓力從接收自加壓氣體源的氣體的第一壓力降低至提供至摻混室氣體入口的氣體的第二壓力。接收自加壓氣體源的氣體的第一壓力大于尿素注入壓力,并且提供至摻混室氣體入口的氣體的第二壓力小于尿素注入壓力。
本實用新型的實施方案提供了以下內容:
1)一種系統,包括:
摻混室,其具有尿素入口、摻混室氣體入口和摻混室出口;
加壓的尿素溶液的源,其被配置成將加壓的尿素溶液以尿素注入壓力提供至所述尿素入口;和
加壓氣體源,其被配置成經由通路將加壓氣體傳送至所述摻混室氣體入口,所述通路沿著長度從所述加壓氣體源延伸至所述摻混室氣體入口,所述通路被配置成將沿著其長度傳送的所述加壓氣體的壓力從接收自所述加壓氣體源的氣體的第一壓力降低至提供至所述摻混室氣體入口的氣體的第二壓力;
其中接收自所述加壓氣體源的氣體的所述第一壓力大于所述尿素注入壓力,并且提供至所述摻混室氣體入口的氣體的所述第二壓力小于所述尿素注入壓力。
2)如項目1)所述的系統,其中當在所述摻混室出口處的壓力大于所述尿素注入壓力時,注入到所述摻混室中的尿素沿著所述通路的長度的一部分行進,在所述部分中氣體壓力低于所述尿素注入壓力。
3)如項目1)所述的系統,其中所述通路被配置成將沿著其長度傳送的所提供的所述加壓氣體的速度從在沿著其長度的第一位置處的第一速度降低至提供至所述摻混室的第二速度。
4)如項目3)所述的系統,其中提供至所述摻混室的所述第二速度是47米每秒或更大。
5)如項目1)所述的系統,其中所述通路被界定在噴嘴中,所述噴嘴延伸穿過由所述摻混室的壁形成的空腔,所述噴嘴的外表面界定與多個相反成型的螺紋匹配地接合的多個螺紋,所述多個相反成型的螺紋由所述空腔的內表面界定。
6)如項目1)所述的系統,其中所述通路具有在所述加壓氣體源的下游的第一位置與在所述第一位置的下游的第二位置之間的均勻的橫截面積、和在所述第二位置與在所述第二位置的下游且在所述摻混室氣體入口的上游的第三位置之間的增加的橫截面積。
7)如項目6)所述的系統,其中所述增加的橫截面積通過所述通路的截頭圓錐形表面界定。
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