[實(shí)用新型]一種光電信號(hào)轉(zhuǎn)換處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201621134984.3
• 申請(qǐng)日: 2016-10-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN206134699U
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-04-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 秦炎福
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 安徽科技學(xué)院
• 主分類號(hào): H01L31/09
• 分類號(hào): H01L31/09;H01L31/0203
• 代理公司: 常州佰業(yè)騰飛專利代理事務(wù)所(普通合伙)32231
• 代理人: 翁斌

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及光電轉(zhuǎn)換技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種光電信號(hào)轉(zhuǎn)換處理裝置。

背景技術(shù)

光敏電阻又稱光導(dǎo)管，光敏電阻器一般用于光的測(cè)量、光的控制和光電轉(zhuǎn)換(將光的變化轉(zhuǎn)換為電的變化)。常用的光敏電阻器硫化鎘光敏電阻器，它是由半導(dǎo)體材料制成的。光敏電阻器的阻值隨入射光線(可見(jiàn)光)的強(qiáng)弱變化而變化，在黑暗條件下，它的阻值(暗阻)可達(dá)1-10M歐,在強(qiáng)光條件(100LX)下，它阻值(亮阻)僅有幾百至數(shù)千歐姆。光敏電阻器對(duì)光的敏感性(即光譜特性)與人眼對(duì)可見(jiàn)光(0.4-0.76)微米的響應(yīng)很接近，只要人眼可感受的光，都會(huì)引起它的阻值變化。設(shè)計(jì)光控電路時(shí)，都用白熾燈泡(小電珠)光線或自然光線作控制光源，使設(shè)計(jì)大為簡(jiǎn)化。

現(xiàn)有的光敏電阻在整個(gè)基板上均涂覆了光敏層，因此對(duì)光敏層所用材料造成了浪費(fèi)，由于一般光敏層所用材料為鎘化物，當(dāng)在整個(gè)基板表面涂覆光敏層時(shí)，該光敏電阻的鎘含量通常將達(dá)到幾千ppm，也不利于環(huán)保。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種光電信號(hào)轉(zhuǎn)換處理裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種光電信號(hào)轉(zhuǎn)換處理裝置,包括金屬基座，所述金屬基座上方設(shè)有金屬殼體，所述金屬基座內(nèi)部下方設(shè)有陶瓷基板，所述陶瓷基板的上方設(shè)有半導(dǎo)體光敏層，所述半導(dǎo)體光敏層上方左側(cè)設(shè)有正電極，所述半導(dǎo)體光敏層上方右側(cè)設(shè)有負(fù)電極，所述金屬基座下方左側(cè)設(shè)有正電極引腳，所述正電極引腳貫穿金屬基座內(nèi)部的陶瓷基板和半導(dǎo)體光敏層，且延伸至正電極的上方，所述金屬基座下方右側(cè)設(shè)有負(fù)電極引腳，所述負(fù)電極引腳貫穿金屬基座內(nèi)部的陶瓷基板和半導(dǎo)體光敏層，且延伸至負(fù)電極的上方。

優(yōu)選的，所述金屬殼體的外表面設(shè)有防潮膜，所述正電極和正電極引腳電性連接，所述負(fù)電極和負(fù)電極引腳電性連接。

優(yōu)選的，所述半導(dǎo)體光敏層的面積小于陶瓷基板的面積，所述金屬基座的外表面均設(shè)有環(huán)氧型樹(shù)脂層。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：本光電信號(hào)轉(zhuǎn)換處理裝置，在金屬殼體內(nèi)部的陶瓷基板上設(shè)有小于陶瓷基板面積的半導(dǎo)體光敏層，節(jié)省了光敏電阻的制作材料，同時(shí)，減少的半導(dǎo)體光敏層涂覆空間也減少了正電極和負(fù)電極設(shè)置所需要的材料，有效提高了光敏電阻的環(huán)保水平。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型俯視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1金屬基座、2陶瓷基板、3半導(dǎo)體光敏層、4正電極、5金屬殼體、6負(fù)電極、7防潮膜、8負(fù)電極引腳、9正電極引腳。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

請(qǐng)參閱圖1-2，本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案：一種光電信號(hào)轉(zhuǎn)換處理裝置,包括金屬基座1，所述金屬基座1上方設(shè)有金屬殼體5，所述金屬基座1內(nèi)部下方設(shè)有陶瓷基板2，所述陶瓷基板2的上方設(shè)有半導(dǎo)體光敏層3，所述半導(dǎo)體光敏層3上方左側(cè)設(shè)有正電極4，所述半導(dǎo)體光敏層3上方右側(cè)設(shè)有負(fù)電極6，所述金屬基座1下方左側(cè)設(shè)有正電極引腳9，所述正電極引腳9貫穿金屬基座1內(nèi)部的陶瓷基板2和半導(dǎo)體光敏層3，且延伸至正電極4的上方，所述金屬基座1下方右側(cè)設(shè)有負(fù)電極引腳8，所述負(fù)電極引腳8貫穿金屬基座1內(nèi)部的陶瓷基板2和半導(dǎo)體光敏層3，且延伸至負(fù)電極6的上方，所述金屬殼體5的外表面設(shè)有防潮膜7，所述正電極4和正電極引腳9電性連接，所述負(fù)電極6和負(fù)電極引腳8電性連接，所述半導(dǎo)體光敏層3的面積小于陶瓷基板2的面積，所述金屬基座1的外表面均設(shè)有環(huán)氧型樹(shù)脂層。

工作原理：在金屬殼體5內(nèi)部的陶瓷基板2上設(shè)有小于陶瓷基板2面積的半導(dǎo)體光敏層3節(jié)省了光敏電阻的制作材料，同時(shí)，減少的半導(dǎo)體光敏層3涂覆空間也減少了正電極4和負(fù)電極5設(shè)置所需要的材料，有效提高了光敏電阻的環(huán)保水平。其中金屬殼體5的外表面設(shè)有防潮膜7可防止雨水進(jìn)入。

盡管已經(jīng)示出和描述了本實(shí)用新型的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以理解在不脫離本實(shí)用新型的原理和精神的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。