[實(shí)用新型]一種離子刻蝕槍裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201621057672.7 | 申請(qǐng)日： | 2016-09-18 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN206076193U | 公開（公告）日： | 2017-04-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 唐志強(qiáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 承德奧斯力特電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01J37/08 | 分類號(hào)： | H01J37/08;H01R4/48 |
| 代理公司： | 北京方韜法業(yè)專利代理事務(wù)所11303 | 代理人： | 朱麗華 |
| 地址： | 067500 河北省承德市*** | 國(guó)省代碼： | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 離子 刻蝕 裝置 | ||
【說(shuō)明書】：
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