[實用新型]真空滅弧室的觸頭裝置及真空滅弧室有效
| 申請號: | 201621034154.3 | 申請日: | 2016-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN207068742U | 公開(公告)日: | 2018-03-02 |
| 發明(設計)人: | 孔國威;魏杰 | 申請(專利權)人: | 北京雙杰電氣股份有限公司 |
| 主分類號: | H01H33/664 | 分類號: | H01H33/664 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司11240 | 代理人: | 韓建偉,張永明 |
| 地址: | 100085 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空 滅弧室 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及真空開關領域,具體而言,涉及一種真空滅弧室的觸頭裝置及真空滅弧室。
背景技術
對于真空開關內部核心元件真空滅弧室觸頭而言,要求其一是在閉合狀態下是作為良導體導通回路電流。當動觸頭與靜觸頭閉合時,實際的接觸面積是觸頭表面積的很小一部分,當真空斷路器要求觸頭處于長期工作狀態時,需要保證觸頭間的收縮電阻在允許的范圍內,避免因長時間工作而使得溫升過高而導致觸頭熔焊。
此外,電流流過處于閉合位置的一對觸頭時,電流的收縮效應會產生一個傾向于推開觸頭的電磁力。動靜觸頭中的電流元與通過收縮點前后的軸向分量相反,反向電流之間會產生電動斥力。假定一對觸頭閉合時表面接觸半徑為b,而實際電流流經區域為半徑為a的收縮區,則該電動斥力為:
上式中,I為通過觸頭的電流,μ0為真空磁導率,a為電流收縮半徑,b為接觸面的半徑。
當真空滅弧室處于閉合或關合過程時,要求其觸頭不會由于過大的電斥力作用而彈開。特別是在電網事故的情況下,如接地關合有預伏短路故障的電路時,通過觸頭間的短路電流可達幾十千安,一旦電動斥力使觸頭彈開會產生電弧,從而引起嚴重燒傷,并可能導致觸頭熔焊或關合失敗。
一旦出現觸頭熔焊,當真空滅弧室在正常工作的狀態下需要開斷負荷電流時,會出現操動機構無法分閘,或分閘過程中觸頭分離拉出金屬須致使重擊穿開斷失敗,從而使滅弧室失去基本的保護功能,并可能發生回路事故。
因此,為提高真空滅弧室觸頭合閘時的接觸壓力,同時減少合閘或關合過程中的電動斥力,需要足夠大的觸頭壓力來保證觸頭接觸良好并在通過大電流時阻止觸頭彈開。同時為滿足關合與開斷的需要,真空滅弧室關合與分閘的速度要求也很高。這樣一來就對配套操動機構的設計提出了更高的要求,而這對具有一般操作功能的操動機構而言是很難實現的。
針對上述的問題,目前尚未提出有效的解決方案。
實用新型內容
本實用新型實施例提供了一種真空滅弧室的觸頭裝置及真空滅弧室,以至少解決提高了真空滅弧室觸頭合閘過程中的接觸壓力以及減少了合閘過程中電動斥力的技術問題。
根據本實用新型實施例的一個方面,提供了一種真空滅弧室的觸頭裝置,包括:靜端觸頭部件和動端觸頭部件,靜端觸頭部件包括:環形導電杯座和靜觸頭片;其中,靜觸頭片連接在環形導電杯座的一端,環形導電杯座朝向靜觸頭片一端的側壁開有杯座槽。
根據本實用新型實施例的另一方面,還提供了一種真空滅弧室,包括任意一項上述的觸頭裝置。
在本實用新型實施例中,通過增大真空滅弧室合閘時的接觸壓力,降低接觸電阻,增加磁場的控制作用,減小電弧集聚,增大導流面積,從而實現了提高真空滅弧室的動穩定和熱穩定的性能以及增大真空滅弧室的開斷能力的技術效果,進而解決了提高了真空滅弧室觸頭合閘過程中的接觸壓力以及減少了合閘過程中電動斥力的技術問題。
附圖說明
此處所說明的附圖用來提供對本實用新型的進一步理解,構成本申請的一部分,本實用新型的示意性實施例及其說明用于解釋本實用新型,并不構成對本實用新型的不當限定。在附圖中:
圖1是根據本實用新型實施例的一種可選的真空滅弧室的觸頭裝置分閘位置的示意圖;
圖2是根據本實用新型實施例的一種可選的靜端觸頭部件的示意圖;
圖3是根據本實用新型實施例的一種可選的動端觸頭部件的示意圖;
圖4是根據本實用新型實施例的一種可選的動靜觸頭間隙磁場產生與分布的示意圖;
圖5是根據本實用新型實施例的一種可選的真空滅弧室的觸頭裝置合閘位置的示意圖;以及
圖6是根據本實用新型實施例的一種可選的磁箍縮接觸壓力增強原理的示意圖。
具體實施方式
為了使本技術領域的人員更好地理解本實用新型方案,下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分的實施例,而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都應當屬于本實用新型保護的范圍。
根據本實用新型實施例,提供了一種真空滅弧室的觸頭裝置的實施例。
圖1是根據本實用新型實施例的觸頭裝置,如圖1所示,該裝置包括:
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