[實用新型]一種潤滑粉粉碎組件有效
| 申請號: | 201621006211.7 | 申請日: | 2016-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN206604562U | 公開(公告)日: | 2017-11-03 |
| 發明(設計)人: | 李國英;楊士娟 | 申請(專利權)人: | 天津市弘亞潤滑粉制造有限公司 |
| 主分類號: | B02C7/08 | 分類號: | B02C7/08;B02C7/12;B02C7/11 |
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| 地址: | 301713 天*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 潤滑 粉碎 組件 | ||
技術領域
本實用新型涉及潤滑粉的制造技術領域,尤其涉及一種潤滑粉粉碎組件。
背景技術
生產鋼絲或焊絲等線材中需要進行拉拔工序,拉拔過程中,模具內壁與線材表面會產生強烈摩擦和大量熱量,為提高拉拔后鋼絲的表面質量,拉拔過程需用潤滑粉對線材表面涂抹,使其在模具內壁與線材表面之間起到潤滑、降溫作用。常見的潤滑粉的生產過程中,使用攪拌軸上的攪拌葉對較大顆粒的潤滑粉原料進行粉碎,之后粉碎后的不同原料進行混合形成復合潤滑粉。但攪拌軸這種粉碎方式生成的潤滑粉顆粒不均勻,影響潤滑粉與線材之間的結合力,影響潤滑粉的性能。
發明內容
本實用新型要解決的問題是現有的攪拌軸這種粉碎方式生成的潤滑粉顆粒不均勻,影響潤滑粉的性能。
為解決上述技術問題,本實用新型采用的技術方案是:提供一種潤滑粉粉碎組件。所述潤滑粉粉碎組件,包括固定盤和位于固定盤下方的研磨盤;所述固定盤上設有進料口,所述進料口自固定盤的上表面延伸至固定盤的下表面;所述研磨盤的下方固定設有一旋轉軸,所述旋轉軸帶動研磨盤繞固定盤的軸向旋轉。
優選地,所述研磨盤的上表面為內凹形,其邊緣高于中心;所述固定盤的下表面為與研磨盤相配合的下凸形。
優選地,所述研磨盤的上表面的中心區域設有定位柱,固定盤的下表面上設有與定位柱相配合的定位槽。
進一步地,所述研磨盤的上表面上設有若干沿研磨盤的中心均勻分布的弧形凸緣,所述凸緣自定位柱延伸至研磨盤的邊緣。
進一步地,還包括套裝在研磨盤外的防護套,所述防護套的上邊緣高于研磨盤的上邊緣,防護套的下端與研磨盤之間設有過濾網。
優選地,所述旋轉軸的外側設有隔離套,所述隔離套與研磨盤的下表面固定連接。
優選地,所述進料口為螺旋狀,所述進料口至少為一個。
本實用新型具有的優點和積極效果是:
1.本實用新型提供的潤滑粉的粉碎組件,結構簡單,配置方便,通過研磨盤的轉動在研磨盤與固定盤之間粉碎潤滑粉,粉碎后的潤滑粉粒徑均勻,有效提高了潤滑粉的潤滑性能。
2.本實用新型中,研磨盤的上表面采用內凹性,使其上的潤滑粉原料更充分地受到研磨。同時,在研磨盤的上表面上還設有凸緣,可根據需求設置不同規格的凸緣,提高了研磨效率。
3.本實用新型中還設有防護套和濾網,防止粉碎過程中粉塵的四散,同時,初步過濾潤滑粉,減輕了后續工序的繁瑣程度。
附圖說明
圖1是本實用新型的結構示意圖。
圖2是本實用新型的分解示意圖。
圖3是本實用新型中研磨盤的俯視示意圖。
圖中:1-固定盤,101-進料口,102-固定軸,103-輔助架,104-定位槽,2-研磨盤,201-旋轉軸,202-隔離套,203-定位柱,204-凸緣,3-防護套,301-濾網。
具體實施方式
為了更好的理解本實用新型,下面結合具體實施例和附圖對本實用新型進行進一步的描述。
如圖1-圖3所示,一種潤滑粉粉碎組件,包括固定盤1、研磨盤2和防護套3。
固定盤1上設有進料口101。進料口101至少為一個,其自固定盤101的上表面螺旋延伸至固定盤101的下表面。固定盤1的上表面上設有與支架連接的固定軸102,固定盤的側面上對稱設有輔助架103,進一步穩固固定盤。
研磨盤2設置在固定盤1的下方。研磨盤2的上表面為內凹形,其邊緣高于中心,固定盤1的下表面為與研磨盤1相配合的下凸形。研磨盤2的上表面的中心區域設有定位柱203,固定盤1的下表面上設有與定位柱203相配合的定位槽104。定位槽104略大于定位柱203,定位柱203可在定位槽104內自由旋轉。研磨盤2的上表面上設有若干沿研磨盤2的中心均勻分布的弧形凸緣204,凸緣204自定位柱203延伸至研磨盤2的邊緣,進一步增大研磨盤2與固定盤1之間摩擦力,可設置不同尺寸的凸緣204滿足不同潤滑粉的粒徑需求。研磨盤2的下方固定設有一旋轉軸201,旋轉軸201帶動研磨盤2繞固定盤1的軸向旋轉。旋轉軸201的外側設有隔離套202,隔離套202與研磨盤2的下表面固定連接。
防護套3套裝在研磨盤2外的,防護套3的上邊緣高于研磨盤2的上邊緣,防止粉碎過程中粉末的飛濺。防護套3的下端與研磨盤2之間設有過濾網301。
以上對本實用新型的實施例進行了詳細說明,但所述內容僅為本實用新型的較佳實施例,不能被認為用于限定本實用新型的實施范圍。凡依本實用新型范圍所作的均等變化與改進等,均應仍歸屬于本專利涵蓋范圍之內。
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