[實用新型]制備納米SiO2氣凝膠的層流等離子體發生裝置有效
| 申請號: | 201620997677.1 | 申請日: | 2016-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN206181523U | 公開(公告)日: | 2017-05-17 |
| 發明(設計)人: | 何澤;李露;李向陽;竇志勇 | 申請(專利權)人: | 成都真火科技有限公司 |
| 主分類號: | H05H1/34 | 分類號: | H05H1/34 |
| 代理公司: | 成都天嘉專利事務所(普通合伙)51211 | 代理人: | 冉鵬程 |
| 地址: | 610016 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 納米 sio2 凝膠 層流 等離子體 發生 裝置 | ||
【說明書】:
下載完整專利技術內容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于成都真火科技有限公司,未經成都真火科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201620997677.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種基于樣本保存設備的溫度監測系統
- 下一篇:多功能藍牙遙控器
- 納米SiO2復合玻璃棉隔板
- 一種在SiC材料上生長SiO<sub>2</sub>鈍化層的方法
- 張應力 LPCVD SiO<sub>2</sub>膜的制造方法
- 一種SiO<sub>2</sub>減反射薄膜及其制備方法
- CVD SiC/SiO<sub>2</sub>梯度抗氧化復合涂層及其制備方法
- 通過由蒸汽相沉積和借助液體硅氧烷原料制造合成石英玻璃的方法
- 一種用于SiO<sub>2</sub>陶瓷及SiO<sub>2</sub>陶瓷基復合材料連接的釬料及其制備方法
- 熒光SiO2膠體試劑的制備方法及使用熒光SiO2膠體試劑的試紙
- 一種SiO2/GQDs–DNA–Au NPs納米復合材料及其制備方法和應用
- 色彩可調的光子晶體裝飾涂層及其制備方法





