[實用新型]一種鈣鈦礦層薄膜的成型設備及其應用

有效

• 申請號: 201620939493.X
• 申請日: 2016-08-25
• 公開（公告）號: CN206408291U
• 公開（公告）日: 2017-08-15
• 發明（設計）人: 姚冀眾;顏步一
• 申請（專利權）人: 杭州纖納光電科技有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458;C23C16/56
• 代理公司: 浙江一墨律師事務所33252
• 代理人: 陳紅珊

1.一種鈣鈦礦層薄膜的成型設備，其特征在于，包括管狀腔體和傳送裝置，所述傳送裝置設置在管狀腔體內，在所述管狀腔體前后分別設置有基片進入段和基片取出段，所述管狀腔體分別設置有若干沉積腔和/或過渡腔和/或退火腔，在所述沉積腔中設置有放置沉積反應物的載物臺，在所述退火腔中設置有放置退火輔助溶劑的載物臺，在所述沉積腔和退火腔中還分別設置氣壓調節裝置和加熱裝置，所述加熱裝置分別對載物臺中的沉積反應物和退火輔助溶劑進行加熱，所述沉積反應物和退火輔助溶劑加熱蒸發后其氣體顆粒沉積到位于所在腔室中的待沉積薄膜的基片表面上，在相鄰段與腔室以及各腔室之間分別利用隔板隔開；待沉積薄膜的基片放置在基板架上，由傳送裝置輸送。

2.如權利要求1所述的鈣鈦礦層薄膜的成型設備，其特征在于，所述傳送裝置包括傳送帶，所述基板架設置在傳送帶上；所述傳送帶設置在載物臺的正上方，所述基片的待沉積面朝下正對載物臺。

3.如權利要求2所述的鈣鈦礦層薄膜的成型設備，其特征在于，在所述基板架的中部設置有放置基片的凹槽，所述凹槽的中部設置有凹槽孔，所述凹槽略大于基片，所述凹槽孔略小于基片的待沉積表面，在所述基板架的兩邊裝有可橫向移動的活動的基片固定板用于固定基片的位置，所述基片固定板固定在基片的背面。

4.如權利要求1所述的鈣鈦礦層薄膜的成型設備，其特征在于，在所述載物臺上部設置有分流隔板，在所述分流隔板上設置有多個分流孔，所述載物臺蒸發的反應物氣體經過分流隔板后再到達基片表面。

5.如權利要求1所述的鈣鈦礦層薄膜的成型設備，其特征在于，所述加熱裝置包括位于沉積腔的上加熱板和下加熱板，以及位于退火腔的上加熱板和下加熱板，所述沉積腔的上加熱板和退火腔的上加熱板分別給基板架上的基片加熱，所述沉積腔的下加熱板和退火腔的下加熱板分別給所在腔室的載物臺中的沉積反應物和退火輔助溶劑進行加熱。