[實用新型]一種芬頓氧化處理設備有效
| 申請號: | 201620876189.5 | 申請日: | 2016-08-15 |
| 公開(公告)號: | CN206127006U | 公開(公告)日: | 2017-04-26 |
| 發明(設計)人: | 陳志明 | 申請(專利權)人: | 蘇州市白云環保工程設備有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/04 | 分類號: | C02F9/04;B01J19/18;B01J4/00;C02F1/66;C02F1/72;C02F1/52;C02F1/56 |
| 代理公司: | 蘇州睿昊知識產權代理事務所(普通合伙)32277 | 代理人: | 伍見 |
| 地址: | 215000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氧化 處理 設備 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種芬頓氧化處理設備。
背景技術
在當前的芬頓工藝中,一般分為連續式和間歇式。連續式的芬頓工藝,自動化程度高,處理水量較大,但是COD去除率較間歇式低。間歇式的芬頓工藝,自動化程度較低,處理水量小,氧化效果較好。但是在間歇式的芬頓系統中,也具有如下缺點:
(1)芬頓運行不穩定。隨廢水系統進水水質的變化,芬頓運行的效果也發生著明顯的變化。
(2)由于間歇式芬頓系統的自動化程度較低,因此如果芬頓系統發生異常情況下,重新調整很費人力和物力。
實用新型內容
本實用新型的目的是提供一種自動化程度高而且允許穩定的芬頓氧化處理設備。
為解決上述問題,本實用新型提供了一種芬頓氧化處理設備,包括設有空心內腔的反應釜,其特征在于,還包括:
攪拌裝置,位于所述反應釜內腔中,用于對所述反應釜中的液體進行攪拌;
液體輸入裝置以及設置在所述反應釜上的輸液口,所述廢料輸入裝置能夠通過所述輸液口向在所述反應釜的內腔中輸入液體;
物料添加裝置,其設置有至少兩個,每個所述物料添加裝置均連接有一個設置在所述反應釜上的加料口相通,所述物料添加裝置能夠通過與之相連的加料口向所述反應釜中輸入物料;
測量裝置,用于測量所述反應釜內腔中的發生條件,該條件至少包括溫度值、PH值或者COD值。
第一控制單元,在滿足設定的第一條件后,控制所述液體輸入裝置工作或者停止,所述第一條件至少包含有與所述反應釜中液面到達設定的位置;
第二控制單元,在滿足設定的第二條件后,控制所述物料添加裝置工作或者停止,所述第二條件至少包括下列調節中的一種或者多種:任一個或者多個所述物料添加裝置的工作或者停止達到設定的時間、所述測量裝置測量到的所述發生條件達到設定的值、所述物料添加裝置向所述反應釜內腔中輸入的物料的量。
作為本實用新型的進一步改進,所述物料添加裝置至少包括硫酸投加裝置、氧化劑和催化劑投加裝置、NaOH投加裝置、PAC加料裝置、PAM投加裝置。
作為本實用新型的進一步改進,每個所述物料添加裝置上均設有用于計量添加到所述反應釜內腔中的物料的計量泵。
作為本實用新型的進一步改進,所述反應釜上還設有與其內腔連通的排液閥,所述排液閥用于所述反應釜內液體的排出,所述排液閥打開或者關閉由所述第二控制單元控制。
作為本實用新型的進一步改進,所述反應釜上還設有與其內腔連通的排泥閥,所述排泥閥用于所述反應釜內絮狀物的排出,所述排液閥的打開或者關閉由所述第二控制單元控制。
作為本實用新型的進一步改進,還包括能夠與所述第一控制單元通信的液位計,當所述液位計檢測到所述反應釜內的液體達到設定位置時,由所述第一控制單元通信控制所述液體輸入裝置停止工作。
作為本實用新型的進一步改進,所述輸液口、加料口均位于所述反應釜頂 部的端蓋上。
作為本實用新型的進一步改進,所述端蓋上還設有透明的觀察窗。
本實用新型的有益效果在于,本實用新型對間歇式的芬頓系統進行了改進,使其實現了自動化控制,解決了現有技術中遇到的問題。
附圖說明
圖1是本實用新型的結構示意圖;
圖2為圖1中端蓋的結構示意圖;
其中:2-反應釜;4-攪拌裝置;8-輸液口;12-加料口;14-觀察窗;10-端蓋。
具體實施方式
下面對本實用新型的具體實施方式作進一步詳細的描述。
如圖1-2所示,本實用新型包括設有空心內腔的反應釜2,其特征在于,還包括:
攪拌裝置4,位于所述反應釜2內腔中,用于對所述反應釜2中的液體進行攪拌;
液體輸入裝置以及設置在所述反應釜2上的輸液口8,所述廢料輸入裝置能夠通過所述輸液口8向在所述反應釜2的內腔中輸入液體;
物料添加裝置,其設置有至少兩個,每個所述物料添加裝置均連接有一個設置在所述反應釜2上的加料口12相通,所述物料添加裝置能夠通過與之相連的加料口12向所述反應釜2中輸入物料;
測量裝置,用于測量所述反應釜2內腔中的發生條件,該條件至少包括溫度值、PH值或者COD值。
第一控制單元,在滿足設定的第一條件后,控制所述液體輸入裝置工作或者停止,所述第一條件至少包含有與所述反應釜2中液面到達設定的位置;
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