[實(shí)用新型]一種變粒度砂輪

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201620869013.7
• 申請日: 2016-08-12
• 公開（公告）號: CN206185714U
• 公開（公告）日: 2017-05-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張煒;李利歌;楊晨;馬德峰;張辛;郝大慶
• 申請（專利權(quán)）人: 洛陽軸研科技股份有限公司
• 主分類號: B24D5/14
• 分類號: B24D5/14
• 代理公司: 洛陽公信知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙)41120
• 代理人: 孫笑飛

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于砂輪技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種變粒度砂輪。

背景技術(shù)

砂輪又稱固結(jié)磨具，砂輪是由結(jié)合劑將普通磨料固結(jié)成一定形狀（多數(shù)為圓形，中央有通孔），并具有一定強(qiáng)度的固結(jié)磨具。現(xiàn)有的砂輪中，每一個(gè)砂輪的粒度都是一致的，這種砂輪能解決表面粗糙度要求一致的表面加工問題。對于表面粗糙度要求漸變的加工問題，這種砂輪就無法實(shí)現(xiàn)。

實(shí)用新型內(nèi)容

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供一種變粒度砂輪，該砂輪可以在不改變加工設(shè)備和加工方法的情況下實(shí)現(xiàn)對變粗糙度要求的表面的加工，既滿足加工需要，又提高加工效率和質(zhì)量。

本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是：一種變粒度砂輪，包括圓環(huán)形的砂輪本體，所述砂輪本體用于打磨工件的外圓表面由并排設(shè)置的多個(gè)環(huán)形區(qū)域構(gòu)成，不同環(huán)形區(qū)域的粒度不一致。

作為本實(shí)用新型一種變粒度砂輪的進(jìn)一步優(yōu)化，所述外圓表面環(huán)形區(qū)域沿砂輪本體軸線方向的粒度逐漸變大或變小。

更進(jìn)一步的，所述外圓表面相鄰兩個(gè)環(huán)形區(qū)域之間的粒度相差不超過0.5mm。

作為本實(shí)用新型一種變粒度砂輪的進(jìn)一步優(yōu)化，所述外圓表面環(huán)形區(qū)域中，位于中心的環(huán)形區(qū)域的粒度最小，由中心向外沿方向，環(huán)形區(qū)域的粒度依次增大，且同一環(huán)形區(qū)域內(nèi)的粒度保持一致。

更進(jìn)一步的，所述位于中心的環(huán)形區(qū)域與最外側(cè)環(huán)形區(qū)域之間的粒度相差不超過1.0mm。

更進(jìn)一步的，所述外圓表面相鄰兩個(gè)環(huán)形區(qū)域之間的粒度相差不超過0.5mm。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型至少具有下述優(yōu)點(diǎn)及有益效果：

本實(shí)用新型提供的砂輪沿軸線方向粒度漸變，相當(dāng)于把多個(gè)不同粒度的砂輪組合成一個(gè)，可以在不改變加工設(shè)備和加工方法的情況下實(shí)現(xiàn)對變粗糙度要求的表面的加工，一方面能夠滿足加工需要，另一方面能夠節(jié)省成本，提高加工效率和質(zhì)量。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型的內(nèi)容更明顯易懂，以下結(jié)合具體實(shí)施例，對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)描述。

如圖所示，一種變粒度砂輪，包括圓環(huán)形的砂輪本體，所述砂輪本體用于打磨工件的外圓表面由并排設(shè)置的多個(gè)環(huán)形區(qū)域構(gòu)成，不同環(huán)形區(qū)域的粒度不一致。

本實(shí)用新型中，以同心圓的大小程度表示粒度大小，同心圓越大表示粒度越大。圖中箭頭方向表示砂輪軸線方向。

實(shí)施例1：

一種變粒度砂輪，包括圓環(huán)形的砂輪本體，所述砂輪本體用于打磨工件的外圓表面由并排設(shè)置的多個(gè)環(huán)形區(qū)域構(gòu)成，所述外圓表面環(huán)形區(qū)域沿砂輪本體軸線方向的粒度逐漸變大或變小，且所述外圓表面相鄰兩個(gè)環(huán)形區(qū)域之間的粒度相差不超過0.5mm。

實(shí)施例2：

一種變粒度砂輪，包括圓環(huán)形的砂輪本體，所述砂輪本體用于打磨工件的外圓表面由并排設(shè)置的多個(gè)環(huán)形區(qū)域構(gòu)成，作為本實(shí)用新型一種變粒度砂輪的進(jìn)一步優(yōu)化，所述外圓表面環(huán)形區(qū)域中，位于中心的環(huán)形區(qū)域的粒度最小，由中心向外沿方向，環(huán)形區(qū)域的粒度依次增大，且同一環(huán)形區(qū)域內(nèi)的粒度保持一致。所述位于中心的環(huán)形區(qū)域與最外側(cè)環(huán)形區(qū)域之間的粒度相差不超過1.0mm，所述外圓表面相鄰兩個(gè)環(huán)形區(qū)域之間的粒度相差不超過0.5mm。