[實用新型]一種限制層作用下的納米石墨顆粒的激光連續制備系統有效
| 申請號： | 201620844729.1 | 申請日： | 2016-07-29 |
| 公開（公告）號： | CN206108906U | 公開（公告）日： | 2017-04-19 |
| 發明（設計）人： | 謝小柱;江偉;魏昕;胡偉;任慶磊 | 申請（專利權）人： | 廣東工業大學 |
| 主分類號： | C01B32/205 | 分類號： | C01B32/205;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 510006 廣東省廣*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 限制 作用 納米 石墨 顆粒 激光 連續 制備 系統 | ||
【權利要求書】：
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