[實(shí)用新型]應(yīng)用于三維集成微系統(tǒng)的GaN外延片結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201620771546.1 | 申請(qǐng)日: | 2016-07-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN205944038U | 公開(公告)日: | 2017-02-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宋旭波;呂元杰;馮志紅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國電子科技集團(tuán)公司第十三研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L21/02 | 分類號(hào): | H01L21/02;H01L21/20;H01L29/06 |
| 代理公司: | 石家莊國為知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所13120 | 代理人: | 陸林生 |
| 地址: | 050051 *** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 應(yīng)用于 三維 集成 系統(tǒng) gan 外延 結(jié)構(gòu) | ||
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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