[實(shí)用新型]一種清洗裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201620764064.3
• 申請(qǐng)日: 2016-07-19
• 公開（公告）號(hào): CN206588058U
• 公開（公告）日: 2017-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周志陽(yáng);羅忠惠;何益君;樊利權(quán);陳烈烽;郭士舜;黃笑博
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 寧波舜宇光電信息有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/02
• 分類號(hào): B08B3/02;B08B13/00;B05B13/02
• 代理公司: 上海申湖律師事務(wù)所31308
• 代理人: 覃韋斯,鄧麗星

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種清洗裝置，尤其涉及應(yīng)用于光電攝像頭模組廠及清洗行業(yè)的技術(shù)領(lǐng)域的清洗裝置。

背景技術(shù)

傳統(tǒng)的清洗裝置如專利CN201320114174.1中所述，如本實(shí)用新型圖1和圖 2所示，該清洗裝置包括圓形的清洗轉(zhuǎn)盤,環(huán)繞清洗轉(zhuǎn)盤四周的擋水板,設(shè)置在清洗轉(zhuǎn)盤上用于固定待洗物的限位件,以及設(shè)置在清洗轉(zhuǎn)盤上方的清洗噴頭。該清洗裝置的工作原理是,首先通過限位件將待洗物固定在清洗轉(zhuǎn)盤上,然后啟動(dòng)清洗裝置,清洗轉(zhuǎn)盤開始沿軸心轉(zhuǎn)動(dòng),從而帶動(dòng)待洗物跟著轉(zhuǎn)動(dòng),設(shè)置在清洗轉(zhuǎn)盤上方的清洗噴頭朝待洗物噴水,從而將待洗物的上表面清洗干凈。

然而，傳統(tǒng)的清洗裝置只能進(jìn)行單面清洗,即由于只有上噴頭,因此一次清洗只能清洗待洗物的上表面,無(wú)法同時(shí)清洗待洗物的下表面，清洗效率不理想。例如,在清洗產(chǎn)品及空余綠膜上的落塵及臟點(diǎn)時(shí),鋼板下表面的綠膜在軌道經(jīng)過后也會(huì)帶有落塵及臟點(diǎn)，或者產(chǎn)品在H/A翻轉(zhuǎn)及流轉(zhuǎn)過程中，下表面綠膜上的落塵會(huì)增加黑點(diǎn)及污點(diǎn),對(duì)于污臟的下表面，利用傳統(tǒng)的清洗裝置將難以獲得有效地清洗。

實(shí)用新型內(nèi)容

為解決上述問題，本實(shí)用新型提供一種清洗裝置，包括清洗轉(zhuǎn)盤、環(huán)繞設(shè)置于所述清洗轉(zhuǎn)盤四周的擋水板、設(shè)置于所述清洗轉(zhuǎn)盤并用于固定待洗物的限位件和設(shè)置于清洗轉(zhuǎn)盤上方的清洗噴頭，所述清洗轉(zhuǎn)盤設(shè)有鏤空部；所述鏤空部與所述限位件對(duì)應(yīng)設(shè)置；所述清洗轉(zhuǎn)盤的下方還設(shè)有向上的第二清洗噴頭。所述清洗轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)，所述清洗轉(zhuǎn)盤上方的清洗噴頭和所述第二清洗噴頭分別同時(shí)向所述待洗物噴水，對(duì)所述待洗物進(jìn)行雙面清洗。

優(yōu)選的，所述鏤空部的大小和形狀與所述待洗物相適配。待洗物被固定在清洗轉(zhuǎn)盤上，置于鏤空部，以便第二清洗噴頭透過鏤空部向上噴水對(duì)待洗物的下表面進(jìn)行清洗。

優(yōu)選的，所述鏤空部環(huán)繞所述清洗轉(zhuǎn)盤的軸心間隔設(shè)置有多個(gè)。鏤空部的設(shè)置在清洗轉(zhuǎn)盤可以是規(guī)則的或不規(guī)則的排布。但是規(guī)則的排布，例如：所述鏤空部設(shè)置為五個(gè)，并規(guī)則的分布在清洗轉(zhuǎn)盤的外圍，形成五邊形排布，有利于待洗物承受清洗轉(zhuǎn)盤的高速旋轉(zhuǎn)。

優(yōu)選的，所述鏤空部設(shè)有板筋，以便支撐待洗物。

優(yōu)選的，所述清洗轉(zhuǎn)盤設(shè)有凹部，所述凹部與所述鏤空部連接。凹部的設(shè)置主要用于方便待洗物的取放。

優(yōu)選的，所述清洗轉(zhuǎn)盤的鏤空部所在的盤面設(shè)置為用于清洗待洗物的清洗平面，所述相鄰的清洗平面之間形成角度，便于清洗時(shí)旋轉(zhuǎn)過程中甩水。

優(yōu)選的，所述限位件為定位銷或者卡銷。

優(yōu)選的，所述待洗物為板狀物，例如但不限于PCP板、晶圓、模組、玻璃片、芯片中的一種。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，符合本實(shí)用新型的清洗裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)易實(shí)用且能夠同時(shí)有效地清洗待洗物上下表面臟污，從而有效地改善待洗物的不良率，易于操作，節(jié)省成本，效率高。

附圖說(shuō)明

圖1為傳統(tǒng)的清洗裝置的示意圖之一；

圖2為傳統(tǒng)的清洗裝置的示意圖之二；

圖3為符合本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的清洗裝置的示意圖；

圖4為符合本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的清洗裝置的局部放大圖；

圖5為符合本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的清洗裝置的截面圖。

其中：

1-清洗轉(zhuǎn)盤；

2-擋水板；

3-限位件；

4-鏤空部；

5-第一清洗噴頭；

6-第二清洗噴頭；

7-待洗物；

8-板筋；

9-凹部。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。

如圖3所示，公開了符合本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的一種清洗裝置，包括清洗轉(zhuǎn)盤1、環(huán)繞設(shè)置于所述清洗轉(zhuǎn)盤1四周的擋水板2、設(shè)置于所述清洗轉(zhuǎn)盤1 并用于固定待洗物7的限位件3，如圖所示，對(duì)一片待洗物7進(jìn)行固定、限位的限位件3為4個(gè)，也可以根據(jù)需要按需設(shè)置。還包括設(shè)置于清洗轉(zhuǎn)盤1上方的清洗噴頭，圖中為第一清洗噴頭5，所述第一清洗噴頭5從上而下向待洗物噴水，噴頭的出水方向可以與待洗物垂直，也可以是成一定角度，噴頭可以是靜止的噴水，也可以是抖動(dòng)地噴水，還可以是由清洗桿左右搖動(dòng)以帶動(dòng)噴頭出水，便于沖洗干凈。