[實用新型]遮擋裝置及真空濺射機有效
| 申請號： | 201620650052.8 | 申請日： | 2016-06-27 |
| 公開（公告）號： | CN205999470U | 公開（公告）日： | 2017-03-08 |
| 發明（設計）人： | 喬恩琳;楊大可;張楊;吉冠騰 | 申請（專利權）人： | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 215300 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 遮擋 裝置 真空 濺射 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于昆山國顯光電有限公司，未經昆山國顯光電有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201620650052.8/2.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種離子氮化新型陽極裝置
- 下一篇：有機膜蒸鍍裝置及有機膜裝置
- 同類專利
- 專利分類
